新的喷雾热分解制备薄膜装置.pdfVIP

新的喷雾热分解制备薄膜装置 武光明麻慧琏 北京石油化工学院 102600 朱江宋世庚陶明德 新疆物理研究所83001i 摘要本文主要介绍一种新的喷雾热分解制各薄膜装置，并介绍该装置的特点。利用该装置已成功的制各 出SnO多品膜，ZnO系压敏薄膜，MgO薄膜，PZT铁电薄膜等。 关键词喷雾热分解薄膜制各装置 在电子元件的制造和研制过程中，在新的薄膜材料开发应用过程中，制备具有一定物理 ECDLPE 功能的薄膜是极为重要的一步。薄膜的制各方法很多，如PVDCVDCSD Process)方法制各薄膜是近几年发展而成的新工艺其装 等。利用喷雾热分解(SprayPyrolysis 置各种各样不尽相同。在查阅文献时发现，国内在喷雾热分解制膜方面文献较少11]，国外也 不多【231。本文主要介绍一种新的喷雾热分解制各薄膜装置。 一、喷雾热分解制备薄膜装置 1．装置框图 l温度控制系统 ≥=习==； 衬底加热嚣 臣亟}《枣蟊 2．喷雾装置与雾化装置 热电偶 电炉 玲却系统 雾气喷营 ．本装置对溶液要求较低，如粘度，浓度，温度，颗粒性胶体溶液t网络状胶体溶i硬，‘蓬麓 但所有溶液以能雾化为前提．不同溶液的酸度对成膜有一定的影响，不同溶液要求不同的pH 酸值。 2．本装置对成膜环境要求不高，由于载气正对衬底，成膜时衬底处于载气的保护之中， 某些淀积和化学反应容易形成。由于开始时载气有一定的速度，衬底表面的少量杂质和氧化 物可被清除．其载气可以由压缩机产生，也可以用瓶装压缩气体，如空气。氧气，氮气，氨 气等。 3．成膜工艺简单．一般工艺如提拉法，匀胶法等，由淀积一固化一淀积一固化一退火， 过程才能制成一定厚度的膜，该过程易使膜龟裂，污染，耗时。本装置将这些过程一次性完 成．只要温度合适可以得到理想的结晶膜。从溶液配置看，其工艺也非常简单，组分比例容 易掌握，其掺杂也容易达到理想比例。 4．制成结晶膜的制各温度低，面积大，均匀．根据作者所做的试验发现，相应结晶膜 ”。一r·鞋卧。1酞攫#。 的最低制备温度比国内外其它文献的报道的都耍低，其膜的光泽，密度，尺寸比其它方法如， 拉膜法．匀胶法等制备的膜要理想．尤其可制备出其它方法不易制得的薄膜和有独特性能的 薄膜。 5．成膜机理有待进一步探索。不同的溶液有不同的成膜温度，不同温度有不同的薄膜 结构。不同衬底有不同的成膜难度，如在Sight村底上较难生成PZT膜，甚至在提拉法，匀 不同衬底，不同溶液，不同温度与喷雾速度的关系等，这些问题都需要经过不断试验，寻找其 规律。 6．本装置稍加改造可以制备超微颗粒m．压烧后作为溅射靶，用于制膜。也可直接压烧 成厚膜或陶瓷体。 三、本装置成膜举例 1．应用本装置在325℃下成功制得四方相的SnO多晶膜巴这一晶化温度远低于同样出 发溶液的SoJ—口eI法的晶化温度。且有一定的fllO】选择取向性。傲为透明导电膜，在可见光 区域透射率