等离子体浸没离子注入（PⅢ）在材料表面改性中的应用及发展.pdfVIP

维普资讯 第37卷 第5期 2008年 10月 V01．37 No．5 oct．2008 SURFACETECHNoLO。GY ● 等离子体浸没离子注入 (Pil1)在材料表面改性中的应用及发展 陈惠敏 (上海工程技术大学，上海 201260) [摘 要] 等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没 离子注入技术的原理和特点：该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入，保 留了常规束线离子注入 (CBⅡ)技术的主要 特点，消除了常规束线离子注入所固有的视线限制，克服 了保持剂量问题，使注入装置变得简单和价廉。综述了等离子体浸没离子 注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用，展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景。 [关键词] 常规束线离子注入；等离子体浸