离子注入与沉积TiN膜层中的残余应力.pdfVIP

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  • 2015-08-05 发布于江西
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离子注入与沉积TiN膜层中的残余应力.pdf

金属学与金属工艺

维普资讯 第29卷 第4期 材 料 热 处 理 学 报 Vo1.29 No .4 2008年 8月 IRANSACFIONSOF MATERIALSAND HEAT TREATMENT August 2008 离子注入与沉积 TiN膜层中的残余应力 刘洪喜 ,‘ 蒋业华 ,‘ 周 荣 ,‘ 冷崇燕 ,‘ 汤宝寅 (1.昆明理工大学机 电工程学院材料成形与控制系,云南 昆明 650093; 2.哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江 哈尔滨 150001) 摘 要:利用掠入射 x射线衍射 (GIAXRD)研究 了GCrI5轴承钢表面等离子体浸没离子注入与沉积 (PIIID)氮化钛 (TiN)薄膜后 膜层表面的应力状态。用 x射线衍射 (XRD)分析 了处理后膜层 的化学组成 。探讨 了薄膜厚度和掠人射角对

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