脉冲激光沉积技术制备Li2O-V2O5-SiO2薄膜.pdfVIP

维普资讯 第26卷 第6期 材 料 热 处 理 学 报 Vo1．26 No ．6 2005年 12月 TRANSACTIONSOFMATERIALSANDHEATTR EATMENT December 2005 脉冲激光沉积技术制备 Li2o．V2O5．SiO2薄膜 赵胜利 ， 文九巴 ， 杨继斌 ， 秦启宗。 (1．河南科技大学材料学院，河南 洛阳 471003；2．水利部小浪底发电厂 ，河南 济源 454681； 3．复旦大学激光化学研究所 ，上海 200433) 摘 要 ：采用355nm脉冲激光沉积(PID)技术 ，以 V0sio，，o5 为靶材制备 LiO．V05一SiO2薄膜 ，考察 了反应气氛 压强、激光能量密度 、基片温度等对薄膜结构和性质 的影响。结果表 明，随着基片温度升高及激光能量密度增大 O— V，05．S