脉冲偏压电弧离子镀Ti／TiN纳米多层薄膜的结构与硬度.pdfVIP

维普资讯 第26卷 第6期 材 料 热 处 理 学 报 Vo1．26 No ．6 2005年 12月 TRANSACTIONSOFMATERIALSANDHEATTREATMENT December 2005 脉冲偏压 电弧离子镀 Ti／TiN纳米多层薄膜的结构与硬度 李 谋 ， 李晓娜 ， 林国强 ， 张 涛 ， 董 闯 ， 闻立时 (1．大连理工大学三束材料改性国家重点实验室，大连 116024；2．大连理工大学物理系 ，大连 116024； 3．北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室 ，北京 100875) 摘 要 ：采用脉冲偏压电弧离子镀设备在高速钢基体上沉积 Ti／TiN纳米多层硬质薄膜 ，通过仅改变偏 压幅值的方法进行对 比实验 。XRD分析和薄膜断截面 SEM形貌显示出薄膜的纳米多层组织结构 ；硬 度测试表 明纳米多层薄膜硬度随脉冲偏压升高而升高 。在 一900V时超过 同等条件制备的TiN单层薄