椭圆偏振光谱技术及其对功能薄膜材料的性能表征.pdfVIP

摘 要 近几十年来，随着自动椭偏仪的发展和完善，椭偏光谱技术作为表征光学性 质和块材以及薄膜分层结构的一种非破坏性工具已经逐渐地普及。与传统的测试 手段相比，它具有非破坏性、非苛刻性、高精度和高灵敏度等优点。通过椭偏测 量，可以在很短的时间内得到从近紫外到近红外范围内的椭偏参数1,o和△随波长 变化的全谱。然后对妒和4进行解谱，可以得到诸如介电常数、光学常数、膜层 厚度和复合膜中各个成分的组分等参数。逐渐成为测量超薄膜、超晶格、多层膜 等各种薄膜材料的厚度和光学常数的一种重要的技术手段。为了对椭偏光谱技术 有一个全面的了解和研究，本论文主要从以下几个方面展开工作： 首先，详细阐述了国内外椭偏仪以及椭偏技术的发展历史、现状和特点，并 且介绍了它在各个领域中的应用。然后，从理论上研究了椭圆偏振光谱技术原理， 详细推导出环境媒质．薄膜．基片系统所遵循的椭偏方程，然后研究了光度式椭偏 仪的测量原理，进而给出椭偏参数与光学常数之间的关系。在第三章介绍了两种 常用的椭圆偏振测量仪的硬件组成