光敏剂诱导化学镀镍的研究.pdfVIP

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金属学与金属工艺

维普资讯 第1。卷第1期 腐蚀科学与防护技术 v。1.10N。.I l998年 1月 CORROSION SCIENCE AND PROTECTION TECHNOLOGY Jan·1998 光敏剂诱导化 镍,的,研究 杨 玉国 孙冬柏 杨德钧 \2 北京辑衰。j∈写j 享写 系北京】0。083) 摘 要 在酸性化学镀镍镀液 中加 ^光敏剂S.光照下可以实现室温化学镀镍 .研究了光敏剂浓度 、 ^射光强度和波长、镍盐和次磷酸根浓度对化学镀镍沉积速度 的影响.根据实验结果推测 了光敏剂 S诱导化学镀镍 的反应机理. 关键词 化学镀镍.N一P台盒.光催化.光敏剂 学科分类号 TQ153.1 化学镀镍层以其优异的均匀性 、硬度 、非磁性 、耐磨和耐蚀性等化学、物理和机械性能在各 工业部 门得到广泛应用.许多因素如 电流脉冲 、超声波 、激光 等不仅影响化学镀的沉积 速度.还对镀层性能产生显著影响.在室温下利用激光束照射使镀液局部升温达到化学镀镍的 引发温度可实现光照区化学镀镍 ,镀速可提高几个数量级,而且镀层性能明显改善.紫外 光也对化学镀镍过程有影响.根据在前处理和施镀过程中的不同步骤进行紫外光照射 .将会出 现化学镀镍反应或是在光照区被抑制或是非光照区被抑制等现象.这两种方法为微电子线路 和器件 的加工和修补提供了无掩膜微细加工新技术 ,受到人们的重视.但也存在光照区和非光 照区由于温差而引起的非光照区基体金属溶解和浸蚀等缺点 . 我们首次利用光化学原理在酸性化学镀镍的基本镀液中加入光敏剂,通过普通光照射在 室温下实现了化学镀镍磷台金,镀层的结构和形貌与普通化学镀镍有明显区别,这为在酸性镀 液中室温化学镀镍提供了一种新方法. 1实验方法 实验所用试剂均为分析纯,溶液用蒸馏水配制. 镀液是将 NiSO 和Nali!PO 分别用 pH5.4的HAc—NaAc缓冲溶液溶解后混台制成 .镀 液组成为 NiSO 0.08mo[·dm~.NaH2PO20.23otol·dm~.光敏剂吸收光谱用 VIS一723可 见光分光光度计 (上海第三分析仪器厂)测定. 实验装置如图 1.从一个 500W 的卤钨灯光源发 出的光经过干涉滤光片和恒温水套后照 射到反应器里 ,恒温水套温度 由超级恒温槽进行循环水维持.反应器内盛有酸性化学镀镍镀 液. ‘ 恒到韧穑 :1997—0228 维普资讯 腐蚀科学 与防护技术 试样为4.5CI]lx3CI]l的铜片 经砂纸 打磨除氧化皮 、除油、l0 HSO 酸洗后进 入反应器 .并用铁丝触发. 沉 积速度用增重法测量.首先称量施 镀前试片的重量 ,镀后再称量其重量,由两 者的差值和施镀时试 片面积求 出沉 积速 度.镀层成份用扫描电镜 EDX分析. F 1Schematicdiagram oftheexperimentalapparaltls 2结果与讨论 一 lightsource·Pfilter. therma]slalsheath一 {reacfor,5substrate. thermas【tatbath 2.1光敏剂浓度对沉积速度的影响 在 pH5.4的镀液中不加光敏剂 S时 , 光照试片上没有镀层沉积出来.而是发生试片的腐蚀.镀液 中加人光敏剂后 ,光照时可沉积出 金属镀层,经扫描电镜 EDX分析 ,镀层成份为Nj85.9~90.3 (Wt)、

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