氮气对DC-PCVD法制备金刚石薄膜影响的研究.pdfVIP

2011年 10月 第5期 金刚石与磨料磨具工程 0ct．2011 第31卷 总第 185期 Diamond AbrasivesEngineering No．5 Vo1．31 Seria1．185 文章编号：1006—852X(2011)05—0015—05 氮气对 DC—PCVD法制备金刚石薄膜影响的研究 侯 雪 姜志刚 朱品文 郑艳彬 胡 双 封全娇 (吉林大学超硬材料国家重点实验室，长春 130012) 摘要 采用直流热阴极等离子体化学气相沉积方法，用甲烷、氢气、氮气的混合气体在Mo基底上成功制 备了金刚石薄膜。分别采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪 (XRD)、拉曼光谱仪 (Raman)对不同 流量氮气氛下生长金刚石薄膜的形貌、取向、质量进行了表征。结果表明：适量氮气的加入，不仅可以促 进金刚石薄膜的生长速率，还可以促进金刚石 (100)晶面的显现；随着氮气含量的增加，金刚石晶粒也逐 渐细化，并且薄膜中非金刚石成分增加，但金刚石表面变得光滑平整。本工作有助于金刚石膜涂层领域 的应用 。 关键词 化学气相沉积；金刚石薄膜；氮气 中图分类号 TQ164 文献标志码 A DOI编码 10．3969／j．issn．1006—852X．2011．05．004 EffectofN2gasonthediamondthinfilmspreparedbydirectcurrent hot-cathodeplasmachemicalvapordeposition HouXue JiangZhigang ZhuPinwen ZhengYanbin HuShuang FengQuanjiao (StateKeyLaboratoryofSuperhardMaterials，JilinUniversity，Changchun130012) Abstract DiamondfilmsweresuccessfullydepositedonMo substratebydirectcurrenthot-cathodeplasma chemicalvapordepositionmethodusingCH4／H2／N2gasmixture．Thesurfacemorphology，grainorientationand crystallinequalityofdiamondfilmswerecharacterizedbyscanningelectronmicroscope (SEM)，X-ray diffraction(XRD)，Ramanspectroscopy．Theresultsshow thatappropriateamountofN2gascannotonly improvethediamondgrowthrategreatly，butalsoincreasegraduallythe(100)squarediamondgrain，withthe increaseofN2gas，thecrystallinesizeofdiamonddecreasescompaniedwithpartofcarbonmembranestructure emerginginthefilm andthesurfaceofdiamondfilm becomessmoothandflat．Thisstudycanhelptoenlargethe applicationfieldofdiamondfilm coating． Keywords chemicalvapordeposition；diamondthinfilms；N2gas 70年代中期人们成功地利用低压化学气相沉积方法 0 引言 (CVD)合成金刚石薄膜以来，织构甚至单晶金刚石 金刚石具有优 良的物理、化学性能，例如最高硬 薄膜的生长就成为很多科研