反应磁控溅射法制备Y2O3金刚石红外减反膜.pdfVIP

维普资讯 2008年 6月 金刚石与磨料磨具工程 June2008 总第 165期 第3期 Diamond AbrasivesEngineering Seria1．165 No．3 文章编号：1006—852X(2008)03—0010—05 反应磁控溅射法制备 Y203金刚石红外减反膜 郭会斌 魏俊俊 王耀华 贺 琦 吕反修 唐伟忠 (北京科技大学 材料科学与工程学院，北京 100083) 摘 要 采用纯钇(Y)金属靶，在氧+氩反应气氛中进行了Y0薄膜直流反应磁控溅射沉积。研究了工 艺参数改变对薄膜的影响，选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜，达到增透减反射效 果。利用x射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜 (SEM)研究了薄膜的组成和结构。利用x射线衍 射仪(GIXRD)和椭偏仪(Ellipsometer)研究了不同衬底温度和热处理温度对氧化钇薄膜组织结构和光学 性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪(VrIR)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能。研究发现Y0薄膜 能够有效提高金刚石在8～12 m的红外透过性能，在8 m处最大增透可达21．8％，使金刚石红外透过 率由66．4％提高到88．2％；在3～5 m范围，双面镀制了Y2O薄膜的金刚石平均透过率达64．9％，比没 有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54％高出10．9％。 关键词 Y0，薄膜；反应磁控溅射法；红外透过率；减反射 中图分类号 TQ164 文献标识码 A Reactivemagnetron sputteringofIR anti—reflectionY203coatings forfreestandingCVD diamondwindow applications GuoHuibin WeiJunjun WangYaohua HeQiLvFanxiu TangWeizhong (UniversityofScienceandTechnologyBeijing，SchoolofMaterials ScienceandEngineering，Beijing100083，China) Abstract Yttriumdioxide(Y2O3)thinfilmswerepreparedbydirectcurrentreactivemagnetronsputteringof highpurityY targetinAr／O2mixtures．ThecompositionandmorphologyofY203film depositionwasstudiedby X—rayphotoelectionspectroscopy(XPS)andscanningelectronmicroscopy(SEM)．Theopticalperformance andthestructureoftheas—depositionY2O3thinfilmsatdifferentdeposition temperaturesandthefilmsafter heattreatmentwerecharacterizedbyEllipsometryandX—raydiffraction(XRD)．TheIRtransmittanceofthe freestandingdiamondfilm sampleisincreasedto88．2％ atthemostafterdepositingY2O3filmsinthe8～12 m longIRwavelengthrange；whilsttheaverageIR transmittanceofthediamondfilm samplerisefrom 54％ to 64．9％ inthe3～5 m micrometermid—IRwavelengthrange． Keywords Y203thinfilms；directcurrentreactivemagnetronsputterin