金刚石气相沉积硬膜在工具表面的应用与发展.pdfVIP

维普资讯 · 29 · 金 刚 石 气 相 沉 积 硬 膜 在 工 具 表 面 的 应 用 与 发 展 100083 北京科技大学材料学院 王伊卿 吕反修 摘要 本文综述了PVD／CVD／PCVD涂层在工具表面应用，比较几种沉积工艺的应用特点，分析了影响CVDt FCVD涂层与基体附着力的影响因素及研究现状。详细介绍了CVI)垒刚石涂层的应用、沉积工艺、抛光工艺以及 相关的基体前处理工艺。展望了PVI)fCVDIPCVD涤层在工具表面应用、发展的研究方向。 关键词 PVDtCv PCVD涂层 垒刚石潦层 气相沉积涂层技术作为一种有效的表面强化方法 化，为涂层提供更强有力的支撑，提高涂层在冲击载荷 已广泛地用于工模具表面强化，可以显著提高工模具 下延缓裂纹萌生的能力，从而为充分发挥涂层的各种 寿命。其中，化学气相沉积法(Ⅲ法)国外在70年代 优良性能提供必要的基础。 初投人工业应用，它具有涂层结合力优良、绕(均)镀性 袭 1 潦屠结台强度蔑横具使用寿命 比较 好、可实现成分连续调控等优点，但是，这种方法工艺 涂爱工艺 未涂层 TiN 掘化 +TiN 氮化+三层TiN 温度高达 1273K以上，限制其应用范围，一般只用于硬 (pip) (PEVD) (PCVD) 结舍强度(螂琅法1 20kg 45kz 6okg 质合金工具的表面强化。物理气相沉积法 (m 法)国 N4切边模 7000 10000 外在80年代初投人工业应用，该方法工艺温度可降至 平均使 用寿命 M4切边模 7000 14382 773K。因此，除了硬质合金工具外，也适用于高速钢刀 MO切边模 7000 16751 具。它的主要缺点是绕镀性差，只有面对靶的区域能 够均匀镀覆，对于多元涂层不能实现成分连续调控。 刘齐英等 采用等离子体增强化学气相沉积 等离子体化学气相沉积法(PcvD法)是90年代初期投 (PCVO)法和化学气相沉积 (Ⅲ)法分别制备TiN系涂 入工业应用的表面强化新技术，它具有工艺温度低，绕 层，脉冲直流 PCVD工艺参数为：沉积电压500～800V， 镀性好，结合力良好，可实现成分连续调控等特点，即 气压为200～400Pa，H2流量为4O0～600ml／min， 流 兼有CVD法和PVD法的优点，同时避免了二者的缺 量为 200—300ml／min，n 流量为 lOO～120ml／min。 点。 CVD工艺采用标准的工业硬质合金基体镀膜工艺。 1 FVD、CVD、Pc、，D沉积TiN、TiC涂层在工模具的 采用扫描电镜 、x射线衍射仪和连续加载压人仪研究 应用 分析涂层的微观结构、相结构和涂层的力学性能，并采 目前正在推广应用的在工模具表面 PVD、CVD、 用电极电位法测定了涂层的耐腐蚀性能。研究表明： FCVD沉积TiN、TiC涂层的工艺各具特点，强化效果也 PCVD法 TtN系涂层的微观组织形态明显优于同类的 不尽相同。鲍明东等Ⅲ选择冷冲加工标准紧固件的六 CVD法涂层，FCVD法涂层晶粒尺寸细小、均匀，形态 角边模和内六角冲头为研究对象 ，分别对几种常用规 圆整，组织致密；CVD法涂层晶粒形态为多边形，尺寸 格的模具进行PVD、CVD和PCVD表面涂覆处理，涂