气相沉积法金刚石薄膜的性能和应用.pdfVIP

维普资讯 1998．6(108) 3 -l3． 气相沉积法金刚石薄膜的性能和应用 p4乒 45。。凹郑州三工业大茎学化意工茎学蓑院韩秀丽J国 佃～哆 摘要 本文就气相沉积法奎刚石膜的性能和应用研究进行论述．指出了当前金刚石薄膜 研宽中存在的问题和未束发展方向。 主题词 气相沉积法 奎刚石薄膜 Cl／p ，舍 ． 今刚屈 l 盒刚石薄膜研究现状 作为x射线能谱仪探头的金刚石薄膜窗13， 近几年来，在 CVD金刚石膜的增长机理 其强度高于Be窗 口，并可进行 c、N、O等轻 研究的指导下，合成装置的改进．检测手段的 元素的分析；用于扬声器振动膜涂层，大幅度 提高，使合成的金剐石在沉积面积、结晶质 改善了其音响质量。与现代半导体材料相 量 、组成纯度、透光性 、表面平 寰l 无麓盘■石的●让性曩 整度、结梅致密性、生产速率 街化性质 盘尉石 重要参比钧 评述 方面均 已取得令人瞩 目的进 化学稻性 报低 耐多种强酸碱 展：沉积面积高达 150ram2， 睡虚( ，m h) 00∞ CBN：4卯0，SIC=4~041 世界之最 非碳的不纯物痕量 已达到光 蚺导事(W／era·K)20(DTF：13—22)Ag：43，C¨：4．0，Be0：22 世界之最 拉忡强度(P) 0．5x10(‘N) 14叫 (T】 谱分析的极限；透光性接近天 睚鳊翟攫 (附) 14×10~(N) 80x1O6(T】 然金 日石的透光性范围；在 熟蟹滕系数(K ) 0．8x1O一‘ 岛 ：O．5×1O一‘ ‘ 报低 50ram 的径 向距离上表 面不 折射率 2．41(@$90nm) SiC：1．5(@590nm) 是SiC劬 1．6 遗嘲性 225nm--farlR 最宽透光范 平整度接近 20nm：用 He质 摩捧系数 005(dry) Tefk~：0O5 很低 谱检握谝仪测量，泄漏率仅 电阻事(w-c硐) 1×10”(N) AlN：1×1O1| 根好绝缘体 l0左右，结构致性较好；生长 纂带宽度t ) 5．4 si：110．GaAs：1．柏 掇宽 速率 已高达 930ura／hr，渐达 鼽被声速t玎usec) 1B吣0 最高 产业化的程度。合成金刚石 注：N天然空哪石的诅，T理砖计算的t高诅 寰2 cVn童■石(薄量I的■耍应用懂域 多晶薄膜的硬度、密度、热导 序号 已宴现的应用囊境 序号 潜在重要应用领域 率、弹性系数、透光性、折射率 1 切削工具的超硬擒层和CVD l 可在高诅工作的半导体功率器件， 和介电常数等已达到或接近 盘尉石膏杖 机‘挂) 抗辐射器件、高工作电压器件、微谴 天然金剐石的相应值。 功率器件和高功率毫米波放大器等 2 插声器的振动胰豫层(声学) 2 埭疆盘喇石薄膜的石墨纤维增强复 2 盒刚石胰的性能和应用领