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ICS?29.045 H 83 ????? DB?? 广东省 DB XX/ ?????—XXXX ????? LED衬底　第3－4部分： 蓝宝石图形化衬底片测试技术规范 LED substrate —Part 3-4：Testing technical specification for patterned sapphire substrate 点击此处添加与国际标准一致性程度的标识 (征求意见稿) ????? XXXX - XX - XX发布 XXXX - XX - XX实施 广东省质量技术监督局???发布 目????次 前????言 II 1　范围 1 2　规范性引用文件 1 3　术语和定义 1 4　测试要求 2 5　测试方法 3 附录A（规范性附录）　 6 附录B（规范性附录）　 7 附录C（规范性附录）　 8 附录D（规范性附录）　 9 附录E（规范性附录）　 10 附录F（规范性附录）　 11 附录G（规范性附录）　 12 前言 本标准按照GB/T 1.1-2009的规定编制。 本标准的某些内容可能涉及专利，本标准发布机构不承担识别这些专利的责任。 本标准由东莞市中镓半导体科技有限公司提出。 本标准由广东省质量技术监督局归口。 本标准起草单位：东莞市中镓半导体科技有限公司、广东赛翡蓝宝石科技有限公司。 本标准主要起草人：丁晓民、张能、刘南柳、戴立忠、杨鹏、康凯、张国义。 本标准为首次制定。 LED衬底　第3-4部分：蓝宝石图形化衬底片测试技术规范 范围 本标准规定了用于制备LED的蓝宝石图形化衬底片的测试技术规范，包括蓝宝石图形化衬底片的图形结构参数、表面质量、图形一致性等的测试。 本标准适用于制备半导体照明器件的氮化镓外延生长所用蓝宝石图形化衬底片。 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T 14264－ GB/T 20307－ SJ/T 1395－ GB/T 14264－SJ/T 11395－（PSS）patterned sapphire substrate 在蓝宝石基底上，制作出具有细微结构的pattern pitch 蓝宝石图形化衬底片上，相邻图形几何中心点之间的距离。 图形高度　pattern depth 以蓝宝石基底平面为基准面，单个图形沿基准面法向的高度。 图形底图形间距pace 蓝宝石图形化衬底片上，相邻图形边沿之间的最短距离。 边宽　edge exclusion 蓝宝石图形化衬底片上，边缘质量不合格区域的宽度。 图形缺失　pattern loss 蓝宝石图形化衬底片上，周期性阵列排布的图形is-alignment 步进式投影光刻机制备的PSS产品，图形结合不完整或移位。 图形一致性　pattern uniformity 在蓝宝石图形化衬底片上，图形之间结构尺寸的离散程度。 测试要求 测试环境 标准测试环境 温度：25℃±10℃； 相对湿度：50％±10％； 洁净度：ISO 5级（必要时）； 气压：86 kPa～106 kPa； 无影响测试准确度的机械振动、电磁和光照等干扰。 仲裁测试环境 温度：25℃±1℃； 相对湿度：50％±2％； 洁净度：ISO 5 级（必要时）； 气压：86 kPa～106 kPa； 无影响测试准确度的机械振动、电磁和光照等干扰。 测试设备 量程、偏移、稳定性、分辨率和不确定度应符合相关标准的规定； 应按规定间隔进行检定或校准，并有检定或校准证书，有明确的标志； 有以标准形式发布的计量检定规程和校准规范。 测试方法 图形结构 测试项目 图形图形图形图形 F 的规定。 反射谱扫描图示测试法 执行附录 G 的规定。 （规范性附录）扫描电子显微镜测试图形化衬底片的图形结构参数 测试目的 本方法用于测试图形化衬底片的图形结构参数。 测试原理 扫描电子显微镜（SEM）是利用高能的入射电子轰击表面，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。可以获取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。 扫描电子显微镜，仪器的分辨率应优于10 nm； 放大倍数应在不低于5000倍下，获得样品表面的二次电子像； 取样时应保持样品的洁净度； 若样品不导电则需在样品表面喷镀 1 nm～2 nm 的金层； 测试时，需按规定对设备的标尺进行精准的校正。 测试步骤 测试时，参照 GB/T 20307－2006 获取被测样品的二次电子信号，通