辉光放电发射光谱法在材料分析中的应用.pdfVIP

～ 测试与分析 ～ ；＼ ／； ／： ／： 辉光放电发射光谱法在材料分析中的应用 杨 明，狄 平 (东华大学分析测试中心，上海 201620) 摘 要：介绍 了辉光放 电发射光谱法的原理及特点，综述 了近年来国内外该方法在材料分析 中的应用 ，并对 未来发展予以展望。 关键词：辉光放电；发射光谱法；基体分析；深度剖面分析 中图分类号：TG115．33 文献标识码 ：A 文章编号：1008．1690(2009)01．0060—004 ApplicationofGlow DischargeOpticalEmissionSpectrometer t0M aterialAnalysis YANG Ming，DIPing (ResearchCenterforAnalysisandMeasurement，DonghuaUniversity，Shanghai201620) Abstract：Theprincipleandcharacteristicsofglowdischargeopticalemissionspectrometer(GD-OES)wereintro— duced．TheapplicationofGD—OEStomaterialanalysisfieldathomeandabroadinrecentyearswassummarized．In addition，theGD—OESinthefuturewasforecasted． KeyW ords：glow discharge；opticalemissionspectrometry；matrixanalysis；depthprofileanalysis ． 近年来 ，科学家发现在许多情况下，材料表层组 近 (阴阳极距离小于阴极暗区的长度)，因此能够有 成及结构对材料的性质有特殊的作用，因此表层分 效地限制放电面积，使放电处于异常辉光放 电状态， 析和逐层分析的重要性 日益为分析家所关注。通常 大大增强了阴极溅射作用 。Grimm辉光放电光源的 用于表面分析的手段有俄歇 电子能谱 (AES)、X射 主要特点是除了能进行固体样 品的直接分析，还能 线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱 (SIMS)和辉光 稳定地逐层剥离样品，进行表面和逐层分析。 放电发射光谱 (GD．OES)等llJ。由于设备价格、分 目前 ，辉光放电主要有两种供能方式 ：一种是直 析准确度和精密度等不同，在 日常分析中的应用也 流方式 ，一种是射频方式。直流方式只能分析导 电 不一定相同。辉光放电发射光谱分析技术，近几年 样品，如果阴极样品为非导体，等离子体会在瞬问熄 来正在被广泛应用于新材料的研究开发和产品的质 灭。射频辉光放电既可以分析导体 ，也可 以分析非 量控制 中 。 导体，与直流辉光放 电相 比具有不可替代 的优势。 1 辉光放 电发射光谱分析 的基本原 将一定频率的射频电流加到辉光光源上，由于高频 理和特点 作用及正离子和电子 的运动能力 、运动速度不同，一 辉光放 电发射光谱法 (GlowDischarge—Optical 定时间后 ，会产生一个负直流 自偏 电压。这个直流 EmissionSpectrometry，GD—OES)是一种依据惰性气 自偏 电压的存在使得非导体可进行几乎连续的溅 体在低气压下放电的原理而发展起来的光谱分析技 射，从而实现对非导体的连续检测。 术。辉光放 电发射光谱仪主要由辉光放电光源、分 1．2