Ti-Si-N纳米复合薄膜的制备及其力学性能.pdfVIP

第22卷第5期 中国有色金属学报 2012年 5月 、b1．22No．5 TheChineseJournalofNonferrousM etals May2012 文章编号：1004—0609(2012)05．1383．07 Ti．Si．N纳米复合薄膜的制备及其力学性能 杨莹泽，张玉娟，翟玉浩，张平余 (河南大学 特种功能材料重点实验室，开封 475004) 摘 要：采用离子束溅射与磁过滤阴极弧共沉积技术在单晶硅片(400)表面制备 si含量(摩尔分数)为 3．2％ 15．5％ 范围内的TiSiN薄膜。采用x射线光电子能谱(xPs)、电子散射谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)研究TiSiN薄膜的 显微结构和力学性能。结果表明：低Si含量的薄膜以面心立方晶型的Ti(Si)N固溶体形式存在，择优晶面为(200) 面；当Si含量饱和后，出现 Ti(Si)N和 SisN4非晶相，形成 Ti(Si)N／Si3N4纳米复合结构。薄膜硬度范围在 22～26 GPa，采用si3N4小球为对偶时薄膜的摩擦因数均维持在0．13—0．17之间。si含量为 10．9％时，硬度达最大值，结 合较低的粗糙度，使其摩擦因数和磨损率达到最低值。 关键词：Ti．Si-N；纳米复合薄膜；纳米硬度；摩擦 中图分类号：TG174．44 文献标志码：A Preparationandmechanicalpropertiesof Ti—Si—N nanocompositefilms YANGYing-ze，ZHANGYu-juan，ZHAIYu—hao，ZHANGPing-yu (LaboratoryofSpecialFunctionalMaterials，HenanUniversity，Kai~ng475004，China) Abstract：Ti-Si-N filmscontaining3．2％一15．5％Si(molarfraction)weredepositedonSi(400)substratesbyionbeam sputteringcombinedwithtiltedcathodicarcsystem．X—rayphotoelectronspectroscopy (xPs)，energydispersive spectroscopy(EDS)andx-raydiffractometry(XRD、wereusedtostudyhtemicrostructurenadmechanicalpropertiesof TiSiN films．TheresultssuggestthataTi(Si)N solidsolutionwiht face—centeredcubicstructureand(200)preferred crystallineorientationexistinhtefilmswiht lowerSicontent．AftersaturationofSi，htefilmsform atwo—phasestrucutre， consistingofTi(Si)NandamorphousSi3N4．Thehardnessoffilmsisinhterangerfom22GPato26GPa．Thefriction coefficientsmaintain at0．13—0．17usingSisN4spheresascouples．Theharnd essoffilm wiht 10．9％ Sireachesthe maximum value，combinedwiht lowerroughness，whichresultsthatthefrictioncoefficient andwearratereacheshte minimum value． Keywor