SiO+2基底上化学镀Ni-Mo-P薄膜的生长和形成机理.pdfVIP

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2015-08-13 发布于江西
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SiO+2基底上化学镀Ni-Mo-P薄膜的生长和形成机理.pdf

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中国有色金属

Availableonlineat ww．sciencedirect。c0m Transaetionsof 峰： ScienceDirect NonferrousM etals SocietyofChina Press Trans．NonferrousMet．Soc．China23(2013)3629—3633 www ．tnm sc．CB Growingprocessandreactionmechanism of electrolessNi_——Mo。——Pfilm onSiO2substrate M eilingWANG ，一，Zhi．gangYANG ，ChiZHANG ，Dian．1ongLIU 1．SchoolofMaterialsScienceandEngineering，TsinghuaUniversity,Beijing100084，China； 2．DivisionofNanoMetrologyandMaterialsMeasurement，NationalInstituteofMetrology,Beijing100013，China Received14March2013；accepted10September2013 Abstract：ThediffusionbarrierNi-Mo-Pfilm forCuinterconnectswaspreparedonSi0，／Sisubstrateusingelectrolessmethod．The surfacemorphologyandcompositionduringtheformationprocessofelectrolessNi——M o——Pfilm wereinvestigatedthroughanalyzing samplesofdifferentdepositiontime．Inducednucleation，inducedco．deposition，andself-inducedgrowthmechanismsinvolvedin electrolessprocesswereconfirmedbyfield-emissionscanningelectronmicroscopy(FE—SEM)，energydispersivespectrometryand atomicforcemicroscopy(AFM)．Firstly,hteprecedingpalladiumparticlesascatalystsinducehtenucleationofnicke1．Secondly,the nickelparticlesinducethedepositionofmolybdenum andphosphorus．whichattributestoinducedco．deposition．Thirdly,forfiler depositedNi-M o-PinducesdepositionofthelatterNi-M o-Pparticles．Moreover,htereactionmechanism wasproposedwiththe oxydateof po3一