Si含量对CrN%2fTiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响.pdfVIP

第 24卷第 3期 中国有色金属学报 2014年 3月 Volume24Number3 TheChineseJournalofNonferrousM etals March2014 文章编号：1004．0609(2014)03．0739．06 Si含量对CrN／TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响 王建鹏 ，李 伟 ，刘 平 ，马凤仓 ，刘新宽 ，陈小红 ，何代华 (1．上海理工大学 机械工程学院，上海 200093； 2．上海理工大学 材料科学与工程学院，上海 200093) 摘 要：采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶，用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrNT／iSiN 纳米多层膜 。采用x射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对CrNT／iSiN 纳米多层膜显微结构和力学性能的影响。结果表明：随着 si含量的增加，CrN相的结晶程度先增加后降低，涂层 的力学性能先提高后降低，当 (Si)：n(Ti)=7：l8时获得最高硬度为31．5GPa。HRTEM观测表明，在n(Si)：n(Ti)=7：18 时，TiSiN层在CrN层的模板作用下呈面心立方结构，并且与CrN层形成共格外延生长结构；当n(Si)：n(Ti)=l1：14 时，TiSiN层总体呈非晶结构，与CrN层的共格外生长结构被破坏。硬度的升高主要与TiSiN与CrN形成共格外 延生长结构有关。 关键词：CrNT／iSiN纳米多层膜；Si含量；显微结构；力学性能；外延生长 中图分类号：TG174．4 文献标志码：A InfluenceofSicontentonmicrostructureand mechanicalpropertyofCrN ／TiSiN nanomultilayeredfilms W ANG Jian．peng，LIW ei，LIU Ping2MA Feng．cang2LIU Xin-kuan2CHEN Xiao．hong2HEDai-hua2 ， ， ， ， (1．SchoolofMechanicalEngineering，UniversityofShanghaiforScienceandTechnology,Shnaghai200093，China； 2．SchoolofMaterialsSciencenadEngineering,UniversiytofShanghaiofrScienceandTechnology,Shanhgai200093，China) Abstract：UsingCrna dTiSitargetswith differentSicontents，aseriesofCrN／TiSiN nnaomultilayeredfilmswith differentSicontentsweredepositedontheSisubstratebymenasofradiofrequency(RF)magnetronsputteringmehtod． ByX—raydiffractometry (XRD)，highresolutiontransmissionelecrtonmicroscopy(HRTEM)andnnao-nidentation techn iques，theinfluencesofSicontentonmicrostructureandmechna icalpropertiesofCrN／TiSiN nanomultilayered filmswereinvestigated．Theresultsshow that，withhteincreaseofSicontent，htecry