热处理对离子束溅射NiCr薄膜性能和结构的影响.pdfVIP

第37卷第5期 中南大学学报(自然科学版) VoI．37No．5 2006年10月 J．CENT．SOUTH AND oct． 2006 UNIV．(SCIENCETECHNOLOGY) 热处理对离子束溅射Ni—Cr薄膜性能和结构的影响 周继承1。晏建武1’2，田莉1 (1．中南大学物理科学与技术学院，湖南长沙，410083； 2．南昌航空工业学院材料科学与工程系，江西南昌，330034) 摘要：采用低能离子束溅射技术制备Ni-Cr合金薄膜，并对Ni-Cr合金薄膜进行快速热处理。用小角度X射线衍射 仪、扫描电镜、原子力显微镜、*台阶仪、四探针仪等测量薄膜的结构、形貌、厚度及电子学特性。研究结果表明： 采用低能离子束溅射技术结合快速热处理工艺可以制备性能优良的Ni-Cr合金薄膜，薄膜的厚度与溅射时间呈正 比；经过350℃及以上温度快速热处理后，溅射非晶态Ni-Cr舍金薄膜发生晶化；溅射态合金薄膜方块电阻