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　第 14 卷　第 3 期 强 激 光 与 粒 子 束 V o l. 14,N o. 3　 　2002 年 5 月 H IGH POW ER LA SER AND PA R T ICL E BEAM S M ay , 2002　 文章编号: (2002) 光学膜层激光预处理过程研究 蒋晓东, 　黄祖鑫, 　任　寰, 　彭　净, 　叶　琳, 　唐　灿 ( 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900) 　　摘　要: 　光学元件经过激光预处理后, 其抗激光破坏能力最大提高 2 倍以上, 系统研究激光预处理机理 和工艺, 能安全可靠地提高光学元件损伤阈值, 提升高功率激光系统的能量密度。研究了几种 膜、 so l gel PVD ( ) 膜在预处理前后膜层表面的变化 损伤形貌 以及损伤阈值的增幅, 发现预处理过程膜层仍然发生了一定程度 的轻微损伤, 这种损伤和膜层本身缺陷、激光参数密切相关, 预处理过程可逐步消除膜层缺陷。 　　关键词: 　光学膜层; 　激光预处理; 　损伤形貌 　　中图分类号: 　 246　　　　文献标识码: 　 TN A 　　在高功率激光装置的建立中, 光学元件的损伤阈值限制是一个主要瓶颈, 在目前的技术水平和经费状况 下, 通过改进光学元件加工工艺和增加口径来提高激光系统的负载能力是非常难的, 对部分光学元件, 激光预 处理是一种有效的提高激光损伤阈值的方法, 国外有关研究证明, 通过预处理的光学元件其损伤阈值可提高达 [ 1 ] 两到三倍 , 国内目前还未对此进行系统的研究。在光学元件镀膜工艺的限制下, 采用激光预处理方法提高损 伤阈值的前提是对预处理机理有足够的认识和了解, 使激光预处理工艺在效果和费用上达到最优化, 以适合大 批量作业。 1　实验原理 　　激光预处理过程是用强度逐渐增加的激光对光学元件进行多次辐照, 以提高其激光损伤阈值。要达到好的 ( ) 效果, 必须精密控制激光的能量增幅和时间间隔, 而且需要很多次照射 最多可达几百次 , 这使预处理较大口 径的光学元件的耗费很高。目前国际流行的激光预处理机理之一是缺陷清除机制[ 2, 3 ] , 缺陷是相同类型光学膜 层损伤的主要因素, 这种缺陷是以一定的几率密度分布在光学元件表面, 减少和消除缺陷就可提高元件的损伤 阈值。预处理过程可使缺陷逐渐消失形成稳定、轻微的损伤, 避免缺陷被激光瞬间引发而使膜层发生大面积损 坏。本工作对镀不同类型膜层的光学元件的损伤阈值进行了测量, 研究了损伤及预处理后光学膜层的形貌, 并 对其性质和产生原因进行了分析。 1. 1　实验装置及器件 　　图 1 是实验装置图, 实验中使用N d : YA G、单横单纵模调Q 激光器, 输出激光为 1. 064m 的近高斯光束, 脉宽约 5 , 输出单脉冲能量最大 800 , 光斑直 n s m J 径约 8 。预处理时采用 = 800 的透镜将激 mm f mm 光缩束, 本系统采用A pp lo 微能量