CoFe合金薄膜的制备及原子力表征.pdfVIP

CoFe合金薄膜的制备及原子力表征 ／徐秋香等 ·109 · CoFe合金薄膜的制备及原子力表征 徐秋香 ，魏取福 ，汤 倩 ，王佳喜 (f2南大学生态纺织教育部重点实验室，无锡 214122) 摘要 室温下采用射频磁控溅射技术在涤纶纺粘非织造布表 面沉积钴铁 (CoFe)合金薄膜。通过原子力显微镜 (AFM)观察了CoFe合金薄膜在无纺织布表面沉积的微观结构，并较为系统地分析了溅射时间、溅射压强及溅射功率对 CoFe合金薄膜微观结构的影响。结果表明，磁控溅射的工艺参数配置对CoFe合金薄膜表面形貌的影响很大，溅射时间的 长短、溅射功率的大小对成膜的均匀性有很大影响，在一定的溅射压强(O．SPa)时合金颗粒将会因团聚而急速增大。 关键词 射频磁控溅射 CoFe合金薄膜 原子力显微镜 表面形貌 中图分类号：TS109 文献标识码：A PreparationofCoFeAlloyThinFilmsandSurfaceCharacterization byAFM XU Qiuxiang，WEIQufu，TANG Qian，WANGJiaxi (KeyLaboratoryofEco—TextilesofM inistryofEducation，JiangnanUniversity，Wuxi214122) Abstract PET spun-bondednonwovenfabricdepositedwithCoFealloythinfilmsispreparedbyRF(radiofre— quency)magnetronsputteringusingCoFealloyasthetargetandAr(argon)astheworkinggasatroom temperature．The microstructuresofCoFealloythinfilmsdepositedonthesurfaceofPET fibersareanalyzedbyAFM (atomicforeemicro— scope)．TheeffectsofseveralRF sputteringparameters，suchassputteringtime，sputteringpressureandsputteringpoweron microstructuresofCoFealloythinfilmsareinvestigated．Itisshownthattheconfigurationofsputteringparametersmakes greatinfluenceonthemorphologyofCoFealloythinfilms．Thesputteringtimeandsputteringpoweraffecttheuniformityof thethinfilmsgreatly．ThesizeofCoFealloynanoparticlesincreasessharplywhen sputteringpressureis0．5Pabecauseof agglomeration． Keywords RFmagnetronsputtering，CoFealloythinfilms，AFM ，morphology 过 AFM来观察薄膜的表面形貌、颗粒大小、表面均匀性等 ， 0 引言 研究了磁控溅射的溅射时间、溅射压强、溅射功率的变化与 铁磁材料在现代科学技术中得到了广 阔应用，随着材料 其表面形貌的关系，并进一步分析了纳米薄膜的形成机理。 科学的发展 ，已成为一种重要的智能材料。铁磁材料一经磁 本实验采用低温磁控溅射技术完成 CoFe合金薄膜 的制 化，即使是去除外磁场后 ，仍有很大的剩余磁感应强度 ，因此 备，考察了溅射时问、溅射压强、溅