波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术.pdfVIP

波长小于 lOnm的软 X射线多层膜制备技术 ／雷洁红等 ·245 · 波长小于 lOnm 的软 X射线多层膜制备技术 雷洁红，邢丕峰 ，唐永建，吴卫东 (中国工程物理研究院，绵阳621900) 摘要 软X射线短波段 区域 (1~10nm)高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义。该波 段要求镀膜过程中能减小界面扩散，实现膜厚控制，从而严格限制了制备技术的应用。介绍了软X射线短波段多层膜的发 展现状和制备技术，主要 包括蒸发沉积 、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延，对这些方法进行 了比较并提出了 今后 的研 究方向。 关键词 软x射线多层膜 表面粗糙度 制备技术 PreparationTechnologiesofSoftX-rayM ultilayersatW avelengthsbelow lOnm IEIJiehong，XINGPifeng，TANGYongjiang，WU Weidong (ChinaAcademyofEngingeeringPhysics，Mianyang621900) Abstract Fabricationofmultilayersholdinghighreflectivityinshortwavelengthrange(1～ 10nm)forsoftX-ray takesonimportantmeaningsforinvestigationofsoftX rayoptics．Inthewavelengthregion，itisrequestedtominishperva— sionofinterfaceandcontrolthicknessoffilmsduring thecoatingprocess，whichrigorouslyrestrictspreparationtechnolo— gies．ThedevelopmentsituationofsoftX raymultilayersin shortwavelengthrangeandpreparationtechnologiesincluding evaporationdeposition，sputteringdeposition，pulsedlaserdepositionandlasermolecularbeam epitaxyareintroduced．These preparationtechnologiesarecomparedandtheirdevelopmenttrendsareoutlined． Keywords softX raymuhilayers，surfaceroughness，preparativetechnology 等，称为散射层 ；另一层 由低原子序数材料组成 ，如 B、C、Si、 0 引言 Be等 ，称为间隔层。不同波长处 ，多层膜元件 的发展状况不 近年来 ，许多国家的实验室和大公司的研究小组都相继 同。在软 X射线 (1nm 30nm)长波段 (10nm 开展了软 x射线多层膜技术研究。在他们的努力下，软 x射 30nm)，多层膜 已达到了实用化水平 ，应用领域中使用的多层 线多层膜的研究发展迅速 ，多层膜元件 已广泛应用于软 X射 膜大都工作在这个波段 。如 13．9nm处 Mo／Si多层膜正入 线显微镜 、软X射线望远镜 、软x射线投影光刻和软 X射线 射反射率峰值可达到 70 ，接近该波段的理论反射率口]。但 激光等领域 。软 x射线显微镜的分辨本