低介电常数_lowk_介质在ULSI中的应用前景.pdfVIP

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2015-08-17 发布于重庆
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低介电常数_lowk_介质在ULSI中的应用前景.pdf

第 11 期电　　子　　学　　报 Vol. 28 　No. 11 　2000 年 11 月 ACTA ELECTRONICA SINICA Nov. 　2000 　 ( ) 低介电常数 lowk 介质在 ULSI 中的应用前景 1 2 1 阮　刚 , 肖　夏 ,朱兆　 ( 1 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 ,上海 200433 : 2 开姆尼茨技术大学微技术中心 ,开姆尼茨 D09109 ,德国) ( ) 　　摘　要 : 　本文讨论了ULSI 的发展对低介电常数 lowk 介质的需求 ,介绍了几种有实用价值的lowk 介质的研究和发展现况 ,最后评述了lowk 介质在 ULSI 中应用的前景. 关键词 : 　极大规模集成电路 ; 低介电常数材料 ; 无机介质 ; 有机聚合物介质中图分类号 : 　TN47 　　　文献标识码 : 　A 　　　文章编号 : (2000) Pro spect on the Applicatoin of Lowk Dielectric in ULSI 1 2 1 RUAN Gang ,XIAO Xia ,ZHU Zhaomin ( 1ASIC and System State Key Lab . , Fudan University , Shanghai 200433 , China ; ) 2 Center of Microtechnology , Technical University of Chcmnitz , D09107 , Germany Abstract : 　In this Paper ,the requirement of lowk dielectric for developing ULSI is discussed. The current status of research and development for several promising and worthy lowk dielectrics is introduced. Finally ,the prospect on the application of lowk di electrics materials is reviewed. Key words : 　ULSI;low dielectric constant material ;inorganic dielectric ;orga