化学镀NiP合金的沉积机理.pdfVIP

化学镀Ni-P 合金的沉积机理 郑伟国，李 酽，刘 刚 中国民用航空学院理学院 天津，300300 liyan01898@163.com 摘 要：Ni-P 合金镀层具有特殊的电磁学特性和优异的耐腐蚀性能，已 广泛应用于生产实践。弄清 Ni-P 合金的沉积机理对于改进化学镀 Ni-P 合金的性能具有重要意义，但至今仍无统一的认识。本文对化学镀Ni-P 合金的机理进行了综述与讨论。 关键词：化学镀；Ni-P；合金；反应机理 Ni −P 系列合金镀层由于具有优良的机械、物理化学、工艺性能以及表面光洁性而深 受欢迎，广泛用于电子、机械、化工、采矿、医疗、环保、航天等领域[1]。为改进化学镀Ni −P 合金镀层的综合特性，人们对化学镀Ni −P 合金的沉积机理进行了广泛研究，但尚无统一 的认识。但根据施镀的条件、过程中的变化及施镀结果等分析，各种机理存在许多共同之 处： (1) 反应须在具有催化活性(或使之具有活性)的表面进行； H (2) 反应产生气泡，即有 生成，且由同位素实验知， 中的 分别来源于H O 和 H H 2 2 2 H PO − ； 2 2 (3) 反应中镀液的pH 值不断降低，说明反应中有氢离子生成； (4) 当pH 值升高时，镀速加快，镀层中P 含量降低。 依据主要的反应，得到总的反应式如下： (a +1.5b +c)H PO− +aNi2+ +(a −1.5b +c)H O (a +0.5b +c)H PO− +aNi2+ +bP +cH ↑+(2a −b)H 2 2 2 2 3 2 以上几点事实为探索化学镀Ni −P 合金的沉积机理提供了依据，同时也为检测有关反应 历程的正确与否提供了判断的标准。 目前关于沉积过程主要有以下几种理论：以次磷酸盐为还原剂的Ni −P 共沉积理论（原 子氢理论、电化学理论、原子氢—电化学联合理论、氢化物理论、水合物理论等），以硼氢 化钠和二甲胺基硼烷为还原剂的Ni −P 共沉积理论等，但尚没有一种理论能完美地解释实验 现象。对H PO − 被氧化方式的不同理解是产生各种机理理论差别的主要原因。 2 2 1.以次磷酸盐为还原剂的Ni-P 共沉积理论 - 1 - 1.1 H PO − 的性质 2 2 − [2] H 2 PO 2 的构型为四面体型，量子化学研究结果表明 ，氢原子带有0.18984 个负电荷， P −H 的重叠集居数为0.20602。而pH 3 (一种强还原剂)中氢原子的净电荷为0.00894 个负 − 电荷(少于H PO 中氢原子所带的净负电荷),P −H 的重叠集居数为0.34847 (大于H PO − 2 2