溶胶凝胶镀膜技术综述连载6.pdfVIP

全国性建材科技期刊——《玻璃》2003年第4期总第169期 溶胶 凝胶镀膜技术综述(连载6) 王德宪 郭利娅 (秦皇岛玻璃工业研究设计院秦皇岛市066004) 3其它金属氧化物膜 的特征吸收带位于500～600nm之间。e值得注意的是氧化铅膜， 以普通板玻璃为基板，在500℃以下，可见到铅扩散入玻璃基板，同 前面曾经提到，所有高价金属，如果它们的化合 时形成一折射率下降的过渡区，该过渡区始于接近基板的膜层，因 物能够溶于有机溶剂，并在干燥过程中没有析晶倾 此，这部分是光学不均层。当充分加热时，氧化铅Pb()完全被玻璃 向，这些金属均可用来浸镀氧化物膜。镀液的配制 表面吸收。用稀硝酸处理玻璃表面．又可将铅除去。所以，在玻璃表 合适与否是很关键的因素。一种镀液的各种化学成 面会留下一个多微孔的、光学均匀的、折射率低(n≈1．36～1．45)的 分的最佳比例应该通过系统的实验来决定，不能单 玻璃层，当然，这与迁入玻璃表面的铅的量有。f紫外吸收限是焙烧 温度丁B的函数；Cl和N()s一的作用不同。 独作为成膜物质形成氧化物膜的元素，可以加到其 表6列出的是在可见光区无吸收的氧化物镀 它氧化物基体膜中，从而得到高质量的镀膜。可以 膜，在可见光区有明显吸收的氧化物膜列于表7中。 单独作为成膜物质，并具有优良的光学和机械性质 表7在可见光区有吸收的金属氧化物镀膜的性质 的氧化物膜的例子列于表6。 表6在可见光区没有光吸收的金属氧化物镀膜的性质 c薄膜明显表现出半导体性质。g将冥氯化物或醋酸盐溶液喷 到预热的玻璃基板上，也可得到几乎与之相同的光学性质。h在很 大程度上，光学性质是镀膜条件的函数。 表6中的氧化物膜中的氧含量是一定的，而在 表7中的膜的氧含量却是一个变量。例如，Ni和 Ru，其成分难以进行化学计量，它是由成膜过程的 氧化一还原条件决定的。很显然，膜的消光度随加 入镀液中的氧化一还原剂或焙烧(烘烤)镀膜时的氧 a很适合作为基体膜，接受其它物质。b紫外吸收限是焙烧温 化一还原气氛而变。 度下TB的函数；焙烧温度直至400℃，膜中还可检出残余cl。c薄 表6、7中化合物原料一栏的化合物是指这种化 膜明显表现出半导体性质。d膜厚为l／4或l／2波长时，Nd”离子合物的醇溶液。折射率一栏列出了相应氧化物膜的 28 全国性建材科技期刊——《玻璃》2003年第4期总第169期 光学常数，如果没有特别说明，则是指波长在入一 根据图33，可以导出两光束干涉的条件， 550 nm的折射率值。上述两个表中的数据是对相 AB—Bc一—马 (14)