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二维零位光栅及其在光刻对准中的应用1 周成刚，叶锡标，黄文浩 中国科学技术大学 (230027) E-mail：cgzhou@ 摘 要：本文介绍了二维零位光栅对准标记的原理，详细讨论了二维零位光栅副的相对间距 对对准精度的影响，并给出了不同情况下使用二维零位光栅对准标记的适用条件，结果表明， 使用二维零位光栅对准标记可达到纳米级的对准精度，具有广泛的应用前景。 关键词：二维零位光栅、光刻对准、对准精度 1．引言 随着超大规模集成电路的快速发展,以集成电路为核心的现代通讯技术、计算机技术、 航天航空技术和工业自动化控制技术也得到了迅猛发展,使当代的数字化技术 日新月异,这 就需要研制更高性能的大规模集成电路的关键设备。光刻对准在光刻系统中占据着十分重要 的地位，其对准精度和对准速度决定了产品的质量和生产率。一般要求对准精度为最细线宽 的 1/4 一 1/3 左右，因而随着光刻分辨率不断减小，研究和探索高精度的对准方法尤为重要。 [1-3] 近年来人们做了许多有关提高定位对准精度的研究 。 本文提出了一种新颖的基于二维零位光栅的光刻硅片掩模对准标记，采用这种对准标 记，可以通过简单的光路得到高精度的对准，电路和数据处理也非常简单，具有很大的应用 前景和价值。 2．二维零位光栅对准标记的原理 传统的一维零位光栅由多条间隔不等线宽也不等的透光栅线组成。当零位光栅完全重合 时, 透过它的光通量最大,当两块零位光栅之间相对移动时，透过它的光通量将在最大值和 最小值之间变动，这样，零位光栅完全重合时输出光强的最大值则表征了零位所在。由于零 位光栅具有绝对零位，避免了增量式测量的弊端，具有停电记忆和消除累计误差的优点，对 零位光栅的研究广泛开展开来[4-9]，但多局限于一维零位光栅。 对于二维测量系统，就需要有二维的零位光栅来确定系统的零位，二维零位光栅的原理 与一维的相似，当两块二维零位光栅完全重合时，透过它们的光通量达到最大值Io，当它们 的相对位置稍有错开时，透过它们的光通量急剧衰减，设除中心输出的尖峰外的最大残余输 出光通量为Icm,它与零脉冲尖峰值Io的比值S反映了二维零位光栅对准标记的对比度，S越 小，对比度越高。在设计二维零位光栅时，为获得足够高的对比度，要求S≤1/10。 图1给出了栅格常数为5µm，光栅尺寸为320µm×320µm（64×64）的一对二维零位光栅 相对位置发生变化的输出光强变化示意图，图2是其X和Y方向的中心剖面图，由图中可见， 1本课题得到教育部博士点基金（No. 20030358020 ）资助。 -1- 二维零位光栅副的输出光强有明显的零位脉冲存在，且零位脉冲的半宽仅为一个栅格尺寸， 利用该零位脉冲，可以同时给出在平面内X和Y两个方向的零位，特别适合于作为光刻设备中 的硅片掩模对准标记。 图 1 二维零位光栅副输出光强，所用光栅为栅格常数为 5µm 的 64 ×64 二维零位光栅。 图2 经过图 1 中心位置的光强输出 3 ．光栅面间距对零位脉冲信号的影响 理论研究和实验表明，除二维零位光栅副在平行平面内的相对位移对输出光强的影响明 显外，两光栅的相对间距 （即两光栅所在的平行平面之间的间距）对其输出光强的幅值和分 布也有着显著的影响。图 3 给出了同一对二维零位光栅在其它条件不变的情况下，仅仅改变 两光栅平面的面间距，对应的输出光强和其相对位移的关系。所用的二维零位光栅栅格常数 为5µm，光栅尺寸为 320µm×320µm（64×64）。图中分别给出了两块光栅面间距为 20µm、50µm、 79µm（一倍泰伯（Talbot）距离）、100µm 和 500µm 时光栅副输出光强与相对位移之间的关