GB/T 17865-1999焦深与最佳聚焦的测量规范.pdf

Ics31.200 L ,F 臀8 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 cs/T17865-1999 idtSEMIP25:1994 焦深与最佳聚焦 的测量规范 Specificationformeasuringdepthoffocus andbestfocus 1999一09一13发布 2000一06一014a施 国家 质 董鳌技 刁七监 督 局 发布 BGr/ 17865一 1999 目 次 前言 ···································。··········。····。·。·········。。。······。·······································。···。… I 1 范围 ，1 2 引用标准 ········。························。···············。······。·····························。··············… … 1 3 术语 1 4 方法 ···············。·················‘······。···…… 4 5 报 告 ······.，··············。··················································································。·。。。··一 6 GB/r17865一 1999 前 言 本标准等同采用1994年SEMI标准版本 微“型构图”部分中的SEMIP25:1994《焦深与最佳聚焦的 测量规范》(Specificationformeasuringdepthoffocusandbestfocus). SEMI标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准，SEMIP25;1994焦《深与最佳聚焦的 测量规范》是其中的一项，它将与已经转化的八项国家标准: GB/T15870-1995 硬《面光掩模用铬薄膜)))(eqvSEMIP2:1986); GB/T15871-1995 ((硬面光掩模基板》(neqSEMIP1:1992); GB/T16527-1996 硬《面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范》(eqvSEMIP3:1990); GB/T16523-1996 《圆形石英玻璃光掩模基板规范》(eqvSEMIP4:1992); GB/T16524-1996 《光掩模对准标记规范》(eqvSEMIP6:1988); GB/T16878-1997 用《于集成电路制造技术的检测图形单元规范》(idtSEMIP19:1992); GB/T16879-1997 《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》(idtSEMIP21:1992); GB/T16880-1997 《光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则》(idtSEMIP22:1993), 以及与本标准同时转化的GB/T17866-1999《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和 评估测量方法准则》(idtSEMIP23,1993)和GB/T17864-1999《关键尺寸(CD)计量方法》(idtSEMI P24:1994)两项SEMI标准形成一个国家标准微型构图系列。 本标准是根据SEMI标准P25:1994(焦深与最佳聚焦的测量规范》制定的。在技术内容上等同地采 用了该国际标准。 本标准从2000年6月 1日起实施。 本标准由中国科学院提出。 本标准由SEMI中国标准化技术委员会归口。 本标准起草单位:中国科学