HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟分析.pdfVIP

维普资讯 第 18卷 第 1期 无 机 材 料 学 报 Vo1．18，No．1 2003年 1月 JournalofInorganicM aterials Jan．，2003 文章编号：1000—324X(2003)01—0200—07 HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟与分析 戚学贵 ，常 超 2，陈则韶 ，王冠 中2，廖 源 2 (1．中国科 学技术大学工程科 学学院，合肥 230027；2．中国科 学技术大 学物理 系，合肥 230026) 摘 要 ：对热丝法化学气相沉积金刚石膜过程的气氛进行 了模拟与分析．使用 GRI．Mech3．0 甲烷燃烧过程 C／H／O／N 四元体系热化学反应机理和动力学数据，模拟并分析了HFCVD金 刚石膜的C／H气相化学反应，通过对反应流的简单模拟得到了衬底位置气相组成，结果与前 人实验数据吻合 ．探讨 了灯丝温度 、碳源浓度和碳源种类等因素变化对衬底位置气相组成 的影 响 ．结果表 明甲基