ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究.pdfVIP

维普资讯 第 21卷 第 4期 无 机 材 料 学 报 v01．21．NO．4 2006年 7月 JournalofInorganicMaterials Ju1．，2006 文章编号：1000-324X(2006)04-1011-07 ZnO陶瓷靶制备及其薄膜 RF溅射工艺研究 陈 祝 ，一，张树人 2，杜善义 3，杨成韬 2，郑泽渔 2，李 波 2，孙明霞 2 (1．成都信息工程学院通信工程系，成都610225；2．电子科技大学微 电子与 固体 电 子学院，成都 610054；3．哈尔滨工业大学复合材料研究所，哈尔滨 150001) 摘 要： 利用固相反应制备了直径为 70mm，厚度为 10,-~15mm 高质量掺杂 Li2C02的 ZnO 陶瓷靶材，实验 了不 同摩尔浓度 的 Li 掺杂对靶材性能的影响，确定了最佳 Li 掺杂量为 2．2mol％，同时通过在不同温度烧结实验 、不同成型压力实验 确定了 ZnO靶材制备的最佳工 艺，并