ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究.pdfVIP

If 一 }f{口 维普资讯 第 l5卷 第 6期 无 机 材 料 学 报 Vol 15．No．6 2000年 l2月 JournalofInorganicM ateriMs Dec．2000 文章编号：1000·3242((2000)06—1127—04 ZnS薄膜 的溅射沉积及其 XPS研 究 周 咏东 ，方家 熊 ，李言谨 2龚海梅 2汤定元 。 (1_苏州 孚 糸，~,N215006；中国科学院上海技术物理研究所，上海200083) 摘 要 ：用 Ar十束溅射沉积技术在 HgCdTe表面实现 了ZnS的低温沉积 用 x射线光 电子 能谱 (XPS)对上述 ZnS薄膜 及热蒸发 ZnS薄膜 中的 Zn，S元素的化学环境进行 了对 比实 验研究．实验表 明：离子束溅射沉积 ZnS薄膜具有很好的组份均匀性，未探测到元素 Zn、S 的沉积 ． 关 键 词 箍 窭， 墨暨；旦里皇 ：表面抗