电化学方法测定金属镀层孔隙度.pdfVIP

维普资讯 32 SURFACE TECHNOLOGYVo1．髓 No．41997 表面技术 1997年第 26卷第4期 电化学方法测定金属镀层孔隙度 } 帽科学院福建物质结梅研究所二部塑_—… 芝方脯 7，…●‘；1 [摘要] 介绍 了电化学方法测定金属键层孔 度的原理和最近发展 关 望坚 诒．喜 ，叫是． 1 引言 z#是无镀层基体在控制条件下的溶解电流密度 金属镀层的孔隙度是常甩的锋层质量评定参数 是无孔镀层在同样条件下的溶解 电流密度。控制条 它直观地反趺镀层对基体的遮盖情况，以单位面积镀 件应选择使 较大而 尽可能小 层上贯通到基体的小孔数表示。例如对钢基体上的镀 按这十原理测孔隙度驯泄漏电流法 。很早就有人 镍层可以甩沾有铁氰化钾落液的滤纸贴到样片上，在 提出的这个方法 ，近年又有新发展。SimoPeka1989年 贯通到基体的小孔处籽出现蓝点，点数多的表 明孔隙 测定钢上硬铬镀层孔隙度设计的电解池能使pH=4的 度大 醋酸钠电解液慢慢流过样品表面。参比电极放在 电解 孔隙度与镀层的抗蚀性密切相关。利用腐蚀电化 液流动的垂直方向，用浸有电解液的织物保持电接触 学的原理和技术，根据基体与镀层金属的不爵电化学 适当控制电位，铁的溶解电荒密度是 10mA／cm：，而铬 性质，可以定量测出来被镀屡覆盖的基体面积。70年代 只有 0．1mA／cm 。实验结果表明，得到的孔隙度与甩 铁氰化钾试验和中性盐雾试验得到的数据之间有良好 初 ，Morris~y．曾对电化学方括鼬定锭层孔隙度被过评 的相关性 ]。 l_ 述 ，近20年陆续有作者发表实用报告．本文于 综 1990年Roos甩的库仓法仍是基于溶解 电流的测 合开绍。 定．但不是 固定于某一电位下的稳定电流，而是使样品 对孔隙度作如下定义0 经历一定 电位 区间的阳极扫描，记录扫描过程 中电流 P— A ／(Ai+ At)一A ／A 的积分量作孔隙度的指示标度 “。早年Ma．sfe}d曾做 = (1十At，A ) (1) 过有关试验 ，Roos的工作在实验上有了较大改进。他 户——孔隙度 A· At分别为基体暴露面积和镀层实 测定青铜基体上镀锌层和镀镍碑合金层的孔隙魔。电 际面积 A·为总面积 。P就是暴露基体的面积分数． 解液用NaSO-+罗谢尔盐。阳极极化扫描速度 5mY／ 5。扫描电位区间，对锦镀层是0．3～0．6V(S．c．E)，对 2 电化掌测定方法 镍磷镀层是 0．o～0．3V(s，c．E)。记录到的库仓数减 击作对 比的无孔镀层的库仓数，即可换算 出孔 隙 2．1 泄蔫电瀛法 度 ‘ 根据电化学理沧 ，电化学极化下的动力学方程式 库仓法测定速度快，对样品破