电子能谱是在入射粒子作用下.docVIP

电子能谱是在入射粒子作用下，探测样品被激发，发射出电子，分析这些电子所带有的信息( 例如能量、强度、角分布等)，从而获得样品的组成（原子和分子的电子结构）的一门科学[1]。XPS 也可对固体进行表面定性、定量分析和结构鉴定，它是一种实用性较强的表面分析方法。 本研究综述侧重点是应用 XPS的特点 XPS 作为一种现代测试分析方法，具有如下特点： (1) 可以分析除H 和He 以外的所有元素，对所有元素的灵敏度具有相同的数量级。 (2) 相邻元素的同种能级的谱线相隔较远，相互干扰较少。元素定性的标识性强。 (3) 化学位移信息是XPS 用作结构分析和化学键研究的基础。化学位移同原子氧化态、原子电荷和官能团有关。 (4) XPS 是一种高灵敏超微量表面分析技术，信号来自表面几个原子层，样品量可少至10-8g，绝对灵敏度高达10-18g。痕量分析较差，相对灵敏度大约是0.1%。 XPS 可以分析除H 和He 以外的所有元素组 成及其化学状态，也可对官能团组成和混合物成分 进行定性分析。因每一种元素的原子结构不同，所 以原子内层能级上的电子结合能是元素特性的反 映。准确识别谱图是XPS 定性分析的首要条件。 首先区分光电子峰和伴峰，再根据各谱峰的位置、 形状、强度以及谱峰之间的能量间距即可获得原子 或分子的电子结构信息。XPS 也可以根据一张全 扫描谱图对混合物进行定性分析。 XPS 定量分析是以谱峰的强度( 峰面积或峰 高) 与元素含量的关系为基本依据。通常，光电子 峰面积( 或峰高) 的大小主要取决于样品中所测元 素的含量( 或相对浓度)。因此，通过测量光电子峰 的强度就可进行定量分析。但由于样品不同，元素 的含量和光电子峰的强度之间并不仅仅存在比例 关系，影响光电子峰强度的因素相当复杂，至今仍 处在研究、探讨之中。目前，从XPS 定量分析所能 达到的准确度来看，还是属于半定量水平，要达到 真正的定量分析的目的，不论在理论研究，还是在 实验方法方面都还需要进一步探讨。 1.5 结构分析 XPS 结构分析的特性是根据原子内层电子结 合能的化学位移，直接获得表征化合物的化学键和 电荷分布的信息。因此，XPS 的化学位移是研究 化学键和分子结构分析的重要参数。通过测量分 子内各个原子中电子的化学位移，就可以了解分子 中的电荷分析，而这种电荷分布就是分子或原子间 的化学成键和化合物化学结构的表征。XPS 研究 的元素范围广，且不受原子核性质及被测样品对光 吸收性质的限制。但由于XPS 不能提供立体构型 方面的信息，所以在结构分析中它应与其他分析方 法相互配合，使得分子信息更加全面地被人们所认 知。 1.6 深度剖析 XPS 能对固体表面的元素组成和化学结构方 面做出解析，使得研究工作不断深入，人们需要了 解样品的表层及界面，这就需要做电子能谱的深度 剖析，以检测垂直于样品表面的第三维信息。深度 剖析能够对一定深度范围内的薄层剖面进行元素 组成和化学结构分析。 。表面分析方法的基本原理是用各种入射激发粒子或场（入 射粒子或激发源主要有电子、离子、光子、中性粒子、热、电场、 磁场和声波等8 种），使之与被分析的表面相互作用，然后分析 出射粒子或场，用分析谱仪检测出射粒子的能量、动量、荷质 比、束流强度等就可以获得表面的信息。 目前表面分析方法有五十多种，其中应用最广泛的是扫描 电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、原子力电子显微 镜（AFM）、化学分析电子能谱（ESCA）、接触角（CA）和红外反 射- 吸收光谱（RAS）。本文主要对以上几种广泛应用的表面分 析方法的原理及应用进行简要的概述。