直流磁控溅射制备大面积AZO透明导电薄膜_郭杏元.pdfVIP

第47 卷第4 期 真 空 VACUUM Vol. 47, No.4 2010 年7 月 Jul. 2010 直流磁控溅射制备大面积AZO 透明导电薄膜* 1,2 1 2 1 1 1 郭杏元 ，许 生 ，曾鹏举 ，谭晓华 ，严松涛 ，范垂祯 （1. 深圳豪威真空光电子股份有限公司，广东 深圳 518057 ；2. 深圳大学光电子学研究所，广东 深圳 518060） 摘 要：采用直流磁控溅射工艺于200 ℃ 的玻璃基板制备了大面积AZO 透明导电薄膜。重点研究了样品 晶体结构、方阻、可见光透过率、样品形貌等随其位置变化的情况。研究表明，大面积AZO 薄膜的晶体结 构、可见光透过率、样品形貌等