APCVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其性能研究.pdfVIP

维普资讯 第 l2卷第3期 功能材料与器件学报 Vok12，No．3 2006年 6月 JOURNALOFFUNCTIONALMATERIALSANDDEVICES Jun．。2006 文章编号：1007—4252(2006)03—0187—05 APCVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其性能研究 王薇薇，郭玉，张溪文，韩高荣 (浙江大学 硅材料国家重点实验室，杭州 310027) 摘要：采用常压化学气相沉积(APCVD)法，以四氯化钛 (TiC1)、氧气(O)氨气(NH，)作为先驱体， 成功制备了掺氮二氧化钛(TiO)薄膜。通过对其进行扫描电镜 (SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外 可见透过光谱(uV—ws)研究后发现，氮掺杂后在二氧化钛薄膜中引入TiO 相，抑制了锐钛矿相 向金红石相的转变，光吸收限发生红移，相应从365．8nm红移到了402．6nm，提高了薄膜在可见光 照射下的光催化效率，并改善了薄膜表面的亲水性能。 关键词：光催化性；亲水性；掺氮二氧化钛薄膜；常压化学气相沉积 中图分类号：0484．4 文献标识码 ：A PreparationandpropertiesofN —dopedrI’io2filmsbyAPCVD WANGWei—wei，GUOYu，ZHANGXi—wen，HAN Gao—rong (DepartmentofMaterialsScienceandEngineering，SiliconStateKeyLab， ZhejiangUniversity，Hangzhou310027，China) Abstract：UsingTiC14，O2andNH3astheprecursors，N—dopedtitanium dioxidefilmswerepreparedby APCVD．Accordingtotheresultsfrom SEM，X—raydiffraction(XRD)andtheUV—VISabsorption spectrum ，itisfoundthatanew phaseofTi4O7isformed inhtehtinfilm afternirtogendopingandthe crystaltransfomr ationfrom anatasetorutileiSinhibited．Aswel1．areddriftofhteabsoprtionedgefrom 365．8nm to402．6nm existsinhteN—dopedTiO，filmsandthevisible—lightinducedphotocatalysisand hydrophilicityarebothenhanced． Keywords：photocatalysis；hydrophilicity；N—dopingTiO2films；APCVD 1 引言 见光照射下的光催化活性。其制备方法包括离子溅 射…，氧化 TiN[2]，水解法 ]，氮化 TiO2[4,51。这些 近几年，人们对TiO功能薄膜的光催化和亲水 方法的掺氮可控性 比较好，氮的含量可以上升到 性进行了大量的研究，其 自清洁、除臭、杀菌、防雾等 8％，光吸收限可以红移到600nm，大大提高了TiO， 功能已经得到了广泛的开发和应用。目前研究比较 光催化材料的催化