LiH薄膜制备技术进展.pdfVIP

第23卷第4期 四川理工学院学报(自然科学版) V01．23No．4 JournalofSichuan of Science 2010年8月 UniversityScienceEngineering(NaturalEdition) Aug．2010 文章编号：1673-1549(2010)04-0491-03 LiH薄膜制备技术进展 雷洁红1’3，段浩2，唐永建3 3．中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳621900) 摘要：纳米厚度、表面光滑的氢化锂薄膜的制备研究具有十分重要的意义。综述了氢化锂薄膜的 制备方法：电阻蒸发法和磁控溅射法。比较研究后认为这两种制备方法制备的氢化锂薄膜，表面粗糙度 高，不能达到软X射线多层膜的要求。而脉冲激光气相沉积法可以制备表面超光洁，厚度最小为几个纳 米的薄膜，是制备表面光滑的薄膜的一种重要制备方法。 关键词：氢化锂薄膜；制备技术；表面粗糙度；脉冲激光气相沉积 中图分类号：TB31 文献标识码：A 料在界面处的贯穿扩散；(4)足够长的稳定工作时间以 引言 适应制备层数很多的多层膜。目前制备多层膜的方法 氢化锂(LiH)在真空和惰性气氛中，热力学相对稳主要有热蒸发，磁控溅射和脉冲激光气相沉积等…“。 定，不会分解，具有高熔点(6880C)，低密度(0．7749／分析比较各种制备方法，选择最佳的方法制备适用于软 cm3)，高氢含量的优点…。这些性质使氢化锂在微动力X射线多层膜间隔层的氢化锂薄膜具有重要意义。下面 资源和在托卡马克、惯性约束装置中作为聚变燃料方面 对常见的制备方法作一简单的介绍。 得到了特别密切的关注旧…。例如：作为一种微动力资 1制备技术现状 源，氚化锂与除了铍的氚化物的其它氚化物不同，它提 供了电子能量扩散，这可以从标准状况下的氚气处获 关于氢化锂薄膜的制备方法介绍在公开的数据库 得。这是两个因素的结果：氚化锂有高密度的氚，它的 低原子序数和低密度使它对电子的产生提供更小的电 在压强为0．5atm的纯氚气气氛下，采用电阻加热使纯 阻。另外，氚的稳定性，氚化锂提供了微小型化。这些 的“粉蒸发后与氚气反应生成LiT薄膜沉积在坩锅上 性质，连同氚的伽马辐射性质，使氚化锂成为了一个极 方的基片上。但是薄膜中T与Li的最大比值为0．94， 具吸引力的微动力资源，用来作为辐射发光光源和核电 边缘为灰色，其它部分为白色，薄膜不纯【3】。 池应用∞1。作为一种聚变燃料，丰富的同位素6“获取 中子可以起到增值T的作用。氢化锂薄膜对软x射线 5X10。T的真空室中，用磁控溅射锂靶的方法制备了氢 具有高透过性M一，故氢化锂薄膜有望在软x射线作为软 化锂薄膜。溅射速率为2．5nm／min，反应气体为氢气或 x射线多层膜间隔层材料运用。要在软x射线制备具有 高反射率得多层膜，其膜层厚度为几个纳米且具有极高 厚度达到100nm。6J。但是薄膜表面粗糙，如图1所示： 2006年，Jakob 的表面质量(均方根粗糙度RqlOnm)。故制备出纳米 Engbak等人用溅射沉积的方法在Ni 厚度、表面光滑氢化锂薄膜十分重要。 基片上沉积制备了氢化锂薄膜。他们采用了三种不同 多层膜的制备有严格的要求。镀膜设备和工艺必 的途径制备“H薄膜旧1，如图2所示。 须能做到：(1)在镀膜过程中按原子尺寸实现膜厚控制； 三种途径中，(A)中没有I．iH薄膜生成，(B)中生成 (2)膜层足够均匀；(3)尽量减小界面粗糙度和两种材的LiH薄膜