薄膜材料的表征与测量方法(55页).pptVIP

第六章 薄膜材料的表征方法 光学薄膜材料：薄膜的厚度、均匀性、光学性能。 随着电子技术的发展，研究内容扩展到薄膜的各种结构特征、成分分布、界面性质、电学性质。 如果没有先进分析手段的建立和广泛使用，就没有现代意义上的薄膜材料制备技术。 §6.1 薄膜厚度的测量 在薄膜技术中，所希望的性质Ei通常与许多参量有关，特别是与厚度有较大关系，即： Ei=Ei（D，P，….，基片） 式中D代表薄膜厚度；P为残留气体气压。 在薄膜制备过程中和沉积以后需要测量薄膜的厚度。在薄膜沉积过程中的膜厚确定采用原位测量，可以通过许多技术手段和方法实现膜厚和相关物理量的测量。 §6.1.1 薄膜厚度的光学测量方法 特点：不仅被用于透明薄膜，还可被用于不透明薄膜；使用方便，测量精度较高。 原理：多利用光的干涉现象作为测量的物理基础。 光的干涉条件 从平行单色光源S射到薄膜表面一点A的光将有一部分被界面反射，另一部分在折射后进入薄膜中。 这一射入薄膜中的光束将在薄膜与衬底的界面上的B点再次发生反射和折射。 为简单起见，可先假设在第二个界面上，光全部被反射回来并到达薄膜表面的C点，在该点处，光束又会发生发射和折射。 要想在P点观察到光的干涉极大，其条件是直接反射回来的光束与折射后又反射回来的光束之间的光程差为波长的整数倍。 不透明薄膜厚度测量的等厚干涉（FET）和等色干涉（FECO）法 透明薄膜厚度测量的