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合成革用聚氨酯_纳米SiO_2原位杂化膜的制备及性能研究.pdf
第-# 卷% 第!# 期 中% 国% 皮%革 e@=h-#%E@h!#
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$,,. 年 月 ’G)E(%HI(FGIJ *9V?$,,.
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合成革用聚氨酯3纳米*4+ 原位杂化膜
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的制备及性能研究
! ! ! ! $ $
陈意 % 张秀丽% 范浩军 % 李振云% 袁继新% 刘若望
!!?四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室四川成都7!,,7 #
$?温州大学化学与材料科学学院浙江温州-$,$/ $
摘%%要!采用原位有机(无机杂化技术将纳米*4+ 引入合成革用聚氨酯膜中)并对杂化薄膜的表面3截面形态#力学性
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能#透水汽性#吸水率和防霉性能进行了检测* 结果表明,当*4+ 的含量不超过,h,j 时)原位生成的*4+ 颗粒不仅在
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聚氨酯薄膜的表面和截面分布均匀)且其平均粒径被控制在!,,KA左右+同时)纳米级*4+ 的原位引入对聚氨酯薄膜的
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抗张强度和透水汽性均有提高+而且本试验所制备的聚氨酯3纳米*4+ 原位杂化膜还表现出优异的防霉$黑曲霉%性能*
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关 键 词!聚氨酯合成革+纳米*4+ +原位杂化+性能
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中图分类号%-\ 7- %%%文献标识码%8
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