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ZnO纳米线双绝缘层结构电致发光器件制备及特性研究.pdf
第56卷第4期2007年4月 物理 学报
ACrA SINICA
1000..3290/2007/56(04)/2399..06 PHYSICA ⑥2007
Chin.Phys.Soc.
ZnO纳米线双绝缘层结构电致发光器件
制备及特性研究*
常艳玲 张琦锋’ 孙 晖 吴锦雷
(北京大学信息科学技术学院,纳米器件物理与化学教育部重点实验室,北京100871)
(2006年6月27日收到;2006年12月13日收到修改稿)
在利用液相法生长ZnO纳米线薄膜的基础上,构造成功基于ZnO纳米线双绝缘层结构的交流电致发光器件.
此器件呈现出良好的阻容特性,在室温下以一定频率的交流电压驱动,可观察到近紫外波段387iim处和可见光波
段552nln处的发射谱带.从阻容结构的导电特性及ZnO纳米线材料的能带结构等方面探讨了这种器件的电致发光
机理及频率特性.
关键词:ZnO,纳米线,电致发光
PACC:7280E,7860F
p-n结仍然存在较多困难.于是人们尝试利用与ZnO
1.引 言 具有相似的禁带宽度、纤锌矿晶体结构及较低的晶
ZnO半导体材料因其优越的光电特性可以用来 研究了ZnO纳米线在电场或电流驱动下的发光特
制作各种光电子器件,例如光波导器件…、声光器 性.但由于异质p-n结界面上会形成势垒,降低载流
件旧o、表面声波传感器b1等.特别是由于室温下ZnO子的注入效率,因此发光效率并不高,而且未能观察
半导体材料的禁带宽度为3.37eV,激子束缚能为 到明显的紫外发射峰.
60
meV,因此它是一种理想的构造室温低阈值短波 本文探讨了一种利用液相法生长ZnO纳米线
构成的双绝缘层型交流电致发光(EL)器件,在室温
长发光器件04-mo的材料.人们已经探索出多种ZnO
nm
纳米结构的制备方法,并且通过多种表征手段发现 环境下可以明显地观察到位于近紫外波段387
ZnO纳米线不仅具有完善的单晶结构和六角柱形几 处较强的ZnO本征光发射.
何形貌,而且ZnO取向附生膜和单晶ZnO纳米线均
可以表现出良好的光电特性¨1-1引,因此ZnO纳米
2.实 验
线十分有希望用来制造新型短波长半导体纳米激
光器‘13t15’16|.
2.1.材料生长
目前,人们已经较为深入地研究了ZnO纳米线
的光致发光行为,发现室温下利用光抽运ZnO纳米
线会令ZnO纳米线有紫外激光发射行为n3’15].为了 氧化的硅片表面上生长ZnO纳米线.首先将表面干
实现ZnO纳米线在发光器件领域中的应用,人们展 净的硅片在纯氧中高温氧化4h,使硅片表面形成一
层厚度约为120—150
开了对ZnO薄膜及有关纳米结构室温电致发光特 nm的SiO:绝缘层,并用丙酮、
性的研究.但由于ZnO半导体材料的P型掺杂问题乙醇、去离子水依次超声清洗干净作为衬底.在
mL的O.03mol/L的
始终没有得到很好的解决,因此利用ZnO构成同质 60℃水浴加热条件下,将65
然科学基金(批准号:4042017)资助的课题.
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