低介电常数聚酰亚胺多金属氧酸盐复合薄膜的制备及其性能.pdfVIP

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低介电常数聚酰亚胺多金属氧酸盐复合薄膜的制备及其性能.pdf

第24卷第2期 高校化学工程学报 N0.2、b1.24 JournalofChemical ofChineseUniversities 2010 2010年4月 Engineering Apr. 文章编号:1003-9015(2010)02-0263-05 低介电常数聚酰亚胺/多金属氧酸盐复合薄膜的制备及其性能 谭麟,赵建青,曾钫,刘述梅,程晓乐 (华南理工大学材料科学与工程学院,广东广州510640) 摘要:以带环氧官能团的3.环氧丙氧基三甲基硅烷tY-H560)作为改性剂在酸性MeCN/I--120混合溶液中和多金属氧酸 盐I‘岱iWIl039进行反应,制得了硅烷改性的多金属氧酸盐有机杂化物SiWlIKH560,红外光谱、XPS等分析结果表明 亚胺化制备了聚酰亚胺,多金属氧酸盐复合薄膜。EDS能谱分析表明多金属氧酸盐颗粒在聚酰亚胺基体中呈均匀分布, 当复合薄膜中多金属氧酸盐有机杂化物SiWlIKH560含量达到20%(wt)时,复合薄膜的介电常数从3.29降低至2.9. 此外,随着SiW。KH560添加量的增加,复合薄膜的储能模量也显著提高,而复合薄膜的热性能没有受到严重影响。 关键词:多金属氧酸盐;聚酰亚胺;复合薄膜;低介电常数 中图分类号:TQ050.4.3;TB383 文献标识码:A and ofLowDielectricConstant PreparationProperties Films Hybrid TAN Xiao-le Lin,ZHAO Shu-mei,CHEN Jian-qing,ZENGFang,LIU ofMaterialsand China Science (College Engineering,SouthUniversityofTechnology,Guangzhou510640,Chin) Abstract:A obtained silane-modified was mono-lacunaryKeggin-typepolyoxometalateSiWIIKH560 by reaction acidic MeCN/H20 of(3-Glycidoxypropyl)trimethoxysilane(KH560)withKsSiWll039(SiWll)in mixedsolutions.Fr-IRand that XPS demonstrateKH560is ontothe spectrums grafted themodified wasaddedintothe polyoxometalate pyromellitie to form the were

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