低温制备α-Al2O3涂层的研究进展.pdfVIP

Trea廿nent 2012年7月 材料热处理技术≤MaterialHeat 低温制备0【一A1203涂层的研究进展 林岳宾1’2 (1．淮阴工学院江苏省介入医疗器械研究重点实验窒，江苏淮安223003；2．南京航空航天大学材料科学与技术学 院，江苏南京210016) 摘要：综述了低温制备d．Al：O，涂层研究进展，指出实现低温制备d-Al：O，涂层需解决的关键问题是离子轰击以 及增加形核密度，同时展望了低温制备d—Al：O，涂层的发展前景和研究方向。 关键词：低温制备；01．A120，；离子轰击；形核 中图分类号：TGl74 文献标识码：A 文章编号：1001．3814(2012)14—0168．03 Research on of仅一A12()3 atLow ProgressPreparation Coating Temperature LINYuebinlo Provincial forInterve埘onalMedical IIlstituteof DeVices，Huaiyin 223003， (1．Jiangsu KeyLaboratou TecllIlolog)r，Huaian ofMaterialSciencea11d and ChiTla；2．College Tecllllology，N蛐jingUniVers毋ofAeronauticsAs仃onautics，Nanjing210016， China、 of atlow wasreviewed．The to Abstract：The 0【-A1203 temperatIlre investigationprep撕ng coatingpr0伊ess keypmblem realize10w wastoionbombardmentandincrease廿1e its and nucleation，and tempemtureprepamtiOn pmspectdirecting researchwas out． pointed words：low bombardment；nucleation Key tempemturepreparation；0【一A1203；ion A120，是一种新型的III一Ⅳ族宽禁带半导体材 复合处理法是通过渗铝后氧化处理两步法制备 氧化铝涂层，主要有热浸铝+热氧化、热浸铝+微弧 料，具有稳定的仅相和不稳定的1、K、x、8、0及q等 几种亚稳相。亚稳相Al：0，涂层在服役过程中易发 氧化和离子渗铝+离子氧化等。张伟唧将经预处理的 生相变，性能不稳定；只有o【相具有热力学稳定性， 20钢在740℃工业纯铝熔液中浸镀3min后取出． 即使在高温下也具有良好的绝缘性、优异的化学稳 空冷至室温，然后置于1000℃的空气炉中进行高温 定性、硬度高以及具有很好的自修复等优点，因此在 氧化，氧化2h后形成了完整的01．Al：O，保护膜，但 电子元器件、光学和机械等领域有着广泛的应用【H】， 在A1：O，／渗铝层界面形成孔洞。 同时氧化铝薄膜也被应用于耐磨保护涂层、耐蚀保 因此，如何低温制备高质量的d—A120