物理气相沉积硬质涂层技术及进展.pdfVIP

第九次全国热处理大会论文集(2007年9月大连) 物理气相沉积硬质涂层技术及进展 童洪辉 (核工业西南物理研究院，四川成都610041) 摘要：本文概要介绍了离子镀、磁控溅射、离子束辅助沉积和复合沉积技术的原理和优缺点，并指出了这些技术近年在制备 硬质涂层的发展。 关键词：物理气相沉积(PVD)；硬质涂层 以过渡族金属碳化物、氮化物，硼化物和金刚石 离子镀是在真空的条件下，利用气体放电或者 膜等为代表的硬质涂层由于具有超硬和耐磨等特点， 被蒸发物部分离化产生离子轰击效应，最终将蒸发 已在机械加工工具、模具及机械零件等方面获得广 物或反应物沉积在工件上。它具有所镀膜层与工件 的结合好；到达工件的沉积粒子绕射性好；可用于 泛应用。上世纪70年代化学气相沉积(CVD)法开创 了硬质涂层的“黄金刀具”，但因CVD法沉积硬质 镀膜的材料广泛；工件处于电场中，使得镀膜材料 涂层要求的温度高和有环境污染等问题，为了降低 的离子能够达到工件的所有表面，镀膜粘结性好， 沉积温度，减少处理工序，拓宽所能应用的工件材料 组织致密。常用的有三极离子镀、空心阴极离子镀、 种类，同时就开展了物理气相沉积(PVD)硬质涂层活化反应离子镀、多弧离子镀等。 技术的研究并于80年代取得了突破；为了兼具CVD 但离子镀尤其是电弧离子镀技术在原子离子沉 和PVD法的优点。又发展了等离子体辅助化学气相 积的同时，伴随着靶面电弧斑点灼坑喷涌出大量的 微米级颗粒或液滴，而且这些颗粒或液滴亦将直接 沉积(PACVD)硬质涂层技术，使硬质涂层具有沉积 温度较低和膜基结合好等特性。不过由于磨损状况 沉积到工件上，影响到涂层的质量如致密性和粗糙 的千差万别造成所需涂层性能及处理成本的不同， 度。一般地高熔点靶材产生相对较少的液滴。为了减 目前市场上沉积硬质涂层CVD、PACVD和PVD三少或消除颗粒，通常采用优化改进电弧靶的结构、运 行工艺参数和过滤沉积粒子中颗粒等方法。McClure 种技术并存，但随PVD技术的进步，PVD正逐渐成 为沉积硬质涂层的主导技术。 总结了产生液滴数的表达公式： PVD工艺是指在真空条件下。至少有一种沉积 lotD N：：k 元素被离化情况下，进行的气相沉积涂层工艺，PVD IVP 技术主要包括蒸发、离子镀、磁控溅射及离子束辅 N一液滴数以．电弧电流；t．沉积时间；D．靶厚；1一靶 助沉积四种类型，而且在此基础上发展了复合沉积 基距离：V一基片偏压；P一气体压力；K一比例系数， 涂层技术。其中蒸发主要采用电子束方式，目的是为 K值与材料性质、靶材温度、真空室的设计等因素 了提高蒸发原子的离化率，而且为了进一步提高离 有关。因此目前大家在努力通过优化电弧靶磁场和 化率，引入了辅助电子枪、空心阴极放电和霍尔离子 结构以减小工作的弧流密度，减少沉积时间，增加靶 源等，由于该方法具有沉积速率高和易实现大面积 基距离，提高真空压力和偏压，提高靶的冷却效率， 等优点，常被用于薄板和钢带的表面强化处理。所以 有选择地设置工件位置等方法减少沉积到工件上的 本文主要概述离子镀、磁控溅射和离子束辅助沉积 液滴数量。另外与平面电弧靶相比，圆柱电弧靶由于 硬质涂层技术和发展，以及复合沉积技术。 具有较好的冷却效果，工作弧流密度相对较小，因