外文翻译--高耐腐蚀涂层的纳米镍AZ91D镁合金中文版.doc

高耐腐蚀涂层的纳米镍AZ91D镁重点实验室汽车材料，教育部，大学材料科学与工程系，吉林大学，南岭校区，长春， 130025 ，中国2005年3月22 ;接受订正2005年7月4日网上提供2005年8月15 纳米（数控）镍涂层直流电镀对AZ91D镁合金基体，以提高其耐腐蚀性能使用直接化学镀镍作为保护层。作为比较，两个化学镀涂层的镁合金具有不同厚度也。表面的涂层，研究了扫描电镜和FESEM 。数控镍涂层的平均晶粒尺寸约40 nm和明显的（ 200 ）首选纹理显示，经XRD 。那个硬度数控镍涂层约580 VHN ，这是远远高于（约100 VHN ）的AZ91D镁合金。电化学测量结果表明，纳米镍涂层，镁合金是最低的腐蚀电流密度和最积极的腐蚀电位的研究涂层的镁合金。此外，数控镍涂层AZ91D镁镁合金具有很高的耐腐蚀性能的快速腐蚀试验表明该文件中。原因增加耐腐蚀性能的数控镍涂层，镁合金应归功于其细晶结构和孔隙度低的2005年 埃尔塞维尔B.权关键词：纳米镍;镁合金;电镀，化学镀镍;腐蚀 镁日益重要的轻质金属结构材料（密度为1.74 g/cm3 ）在许多行业，飞机建造，航天技术，光学，汽车制造业例如。然而，本质上是高度镁反应及其合金通常有相对较的腐蚀，这限制了应用镁合金在实际环境。因此，通常是可取的改变表面性质的镁或镁合金工件，以提高其腐蚀和磨损电阻，可焊性，导电性或装饰外观。这可以通过涂层零件用金属，具有理想的性能所必需的具体应用[1]。由于镁是一种最电化学活跃的金属，任何涂层的镁合金应作为统一，坚持和孔隙尽可能免费。之一最具成本效益和简单的技术引进金属涂层到基电镀技术，包括化学镀和电镀。此外，镁被列为困难基板板块金属由于其高反应。至于对电镀镁合金，目前有两用于镀镁及镁合金：直接化学镀镍和锌浸泡[2] 。它可指出，在许多以前的报告中关于化学镁合金电镀[3-6] ，镍离子提供基本的碳酸镍镀液中。不同于上面提到的方法，直接化学镀镍的AZ91D镁合金最近进行的使用镀液载硫酸镍[7] 。近年来，有相当大的利益在理解的力学性能，腐蚀性能阻力和耐磨性的数控金属制作的电沉积，例如[8-14] 。据他们说，数控展出许多不寻常的材料力学性能和电化学性能与常规多晶或非晶材料。因此，引入数控涂层相结合，高耐腐蚀性能与良好的耐磨性镁合金基会非常有希望。在本文件中，对化学镀镍从酸性浴[7]第一次上沉积AZ91D镁合金的保护层，以进一步电镀操作，然后数控镀层是直流电镀的保护层。显微和电化学性能的涂料的AZ91D镁合金基体，研究了扫描电镜， FESEM ， XRD和电化学测量。衬底材料是AZ91D镁合金压铸镁合金，大小为30 40 * 5毫米。那个合金，主要是载有大约9.1％ ，铝，锌0.64％ ，锰0.17％ ， 0.001％ ，铁和镁的平衡。样本碳化硅研磨1500号文件与之前的预处理进程。技术流程图电镀AZ91D镁合金的显示图1 。那个样品进行了彻底清洁与去离子水作为尽快任何两个步骤之间的。直接化学镀镍的厚度约上午10在AZ91D镁合金[7]被用来作为保护层进一步镀上镁合金。北卡罗来纳州的电镀镍涂层镁合金是直流电镀从浴含有硫酸镍，氯化镍，硼酸和糖精在pH值为5.0和温度为50恢复。在电沉积过程中，用阳极电解镍板。电镀的运作数控镍涂层进行了约30分钟的将使涂层厚度约15。扫描电子显微镜（SEMJEOL JSM - 5310 ，日本）和场发射扫描电镜（FESEMJEOL JSM- 6700F日本）受雇的意见，表面涂层和断面形态及附件是一个能谱用于定性元素化学分析。晶体结构的样品，研究了X -射线衍射（ X射线衍射仪， X射线数字/最高，日本）技术流程图数控电镀Ni对AZ91D镁合金镁合金。与铜目标和monochronmator在50kV及三百毫安与扫描速度和步骤正在4/min和0.02 ，分别镁合金和涂层硬度进行了评价使用HXD - 1000微型与维氏硬度计压，在负荷100克和会期15号电化学方法进行的电化学分析仪（ CHI800 ，上海，中国） ，这是由计算机控制和支持软件。线性扫描伏安法实验进行了3 ％氯化钠水溶液中使用经典的三电极电池板与铂（ Pt ）的作为反电极和银/氯化银电极（ 207毫伏与）作为参比电极。测试前，工作电极清洁的丙酮激动超声10分钟。裸露面积的测试，得到双涂层环氧树脂（内啡肽651 ）离开揭露面积约一平方厘米。参考铂电极附近有固定的工作电极（约0.5毫米） ，可以尽量减少错误由于IR降的电解质。在电位扫描实验，对样品进行了第一次浸泡到3 ％ NaCl溶液中约2 0分 钟，以稳定开路的潜力。电位曲线所记录的电极电势席卷从价值约300-400毫伏较低值500-600毫伏上比腐蚀电位，分别在清扫率为5毫伏/秒曲线测量和绘制后上述电化学测量。腐蚀电