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电子工艺技术 第29卷第6期
314 Electronics
Process
Technology 2008年11月
低温纳米压印技术制备微纳图案的研究
孙洪文1,刘景全2.陈迪2
(1.河海大学,江苏 常州213022;
2.上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室,上海200030)
摘要:纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图
案。采用低玻璃化温度的su一8
2000.I和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现
微纳图案的转移。采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案。从而避免了
传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤;并且采用FIB方法可同时在衬底
上刺备微米、纳米尺度的图案。实验结果表明用lqB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印
章,经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制。
关键词:纳米压印;低温;聚焦离子束;纳米印章;微纳图案:图案复制
中图分类号:TP271 文献标识码:A
Researchon Fabricationbasedon
Micro/nanopattern
atLow
NanoimprintLithographyTemperature
SUN Di2
Hong—wen‘,LIUJing—quan2,CHEN
21
(1.HehaiUniversity,Changzhou3022,China;
2.ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai200030,China)
a to whenthe
Abstract:Nanoimprintreplicatespatternsbyusingstamp
imprintpolymer polymer
heated its transistion SU一82000.1and were
beyondglass temperature(Tg).Novelpolymers Hybrane
totransfer caHbeusedto atlow withloom
employed patterns.They replicatepattternstemperature.even
thesame fabricationmehodfocusedion di-
temperature.Attime,newimprintstamp using beam(FIB)to
etchsubstratewasresearched.Itthetraditionale—beam canceledtheRIE
rectly replaced methodand
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