基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术.pdf

第23卷第2期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．23，No．2 2011年2月 HIGHPOWERLASERANDPARTICLEBEAMS Feb．。2011 文章编号： 1001—4322(2011)02—0423—05 基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术。 谢瑞清， 李亚国， 陈贤华， 黄 浩， 王 健， 许 乔 (成都精密光学工程研究中心，成都610041) 摘要： 为解决强激光系统中大口径光学元件抛光面形精度收敛困难的问题，提出了一种基于压力补偿 原理的抛光面形快速收敛技术。利用独特的抛光垫修整技术。将抛光垫表面修整成特定形状，使工件与抛光垫 的接触面产生不均匀的压力分布，并结合精确的抛光转速控制，以加快工件面形精度的收敛速度。实验结果表 明。将抛光垫修整成微凸面形，可以有效避免抛光中元件过早塌边问题，能将大口径平面元件的初抛时间从数 天缩短到6h以内，元件面形精度提高到1个波长左右。 关键词：光学元件}抛光； 面形精度；压力分布f抛光垫 中图分类号：TQl71．73 文献标志码： A doi：10．3788／HPLP0423 强激光系统装置对大口径平面光学元件需求量巨大，对元件加工的精度和效率都提出了极高的要求。目 前，国内高精度光学元件制造工业基础还比较薄弱，在各类大口径平面元件的制造流程线中，传统研磨抛光工 艺仍占据着主要地位，仅在最后的精抛光中引入了小工具数控抛光[1。2]。在元件的初抛光工序中，由于传统研 磨抛光对加工者的经验和技能依赖性较大，精度控制具有明显的随意性和不确定性。随着光学元件口径尺寸 的增大，传统工艺面临加工时间延长、控制面形精度收敛愈加困难的问题。元件面形精度作为表征光学元件质 量和决定光束质量的重要参数，其抛光收敛效率直接影响到元件的批量生产效率，因此，亟需改进加工原理、加 工工艺，以提高大口径光学元件批量加工中的面形收敛速率。本文研究了抛光过程中不同工艺参数对工件面 形的影响，并提出将抛光垫修整至特定形貌，使工件与抛光盘之间形成特定的接触压力分布，并根据工件的初 始面形选择合理的加工参数，从而使工件面形精度快速收敛。 1 原理分析 抛光是在研磨基础上进行的超精密加工，以去 residualsurface h ／8no‘ 除研磨产生的表面及亚表面缺陷层，提高表面粗糙 ／residu 度，并对工件研磨后的面形精度进一步修正，降低工 一／—＼曩K／after 件表面的全局形状误差[3]。导致工件表面的面形误 萋I、、、、斗＼abs． 差的根本原因是工件表面材料的不均匀去除，因此， 抛光对工件面形的修正过程就是对不同区域去除不 Residualsurfaceerrorafter and Fig．1 grindingpolishing 同厚度材料，以使工件表面宏观形貌向理想平面收 图1 平面元件加工中不同阶段的残留面形误差 敛，其过程如图l所示。要实现对工件面形的精确 控制，就必须对工件表面各区域的材料相对去除量进行精确控制。 影响抛光表面材料去除的因素有很多，如抛光参数(压力、速度、时间)、抛光垫(材料、表面状况)、抛光液 (磨料种类与粒度、pH值)和温度等。针对材料去除率(dMn。)，人们从不同角度(纯机械作用、机械一化学作用以 及机械一流体作用等)建立了大量模型[4。7]，其中最基础的数学模型是Preston方程 8MRR=dh／dt=kpv (1) 式中：愚为Preston系数，与除