流体二维振动抛光磨粒运动轨迹及流场分析.pdfVIP

科技咨询导报 2007 NO.21 Science and Technology Consulting Herald 科 教 平 台 流体二维振动抛光磨粒运动轨迹及流场分析 杨忠高 牛克忠 (广东工贸职业技术学院机电系 广东广州 510510) 摘 要:本文采用C语言作为工具对二维振动耦合的作用下磨料粒子的运动轨迹进行了初步的仿真分析,利用ANSYS软件模拟和分析 了二维高频振动下的流场状态。最后通过初步实验验证了流体二维振动抛光效果的有效性。 关键词:流体二维振动 抛光 有限元 中图分类号:TH122 文献标识码:A 文章编号:1673-0534(2007)07(c)-0194-02 1引言 究。在二维振动中,超声换能器提供竖直方 近年来,随着光学与微电子学等的不断发 向的超声振动其振动频率为20000～40000Hz, 展,对关键零件表面精度的要求越来越高,需 振幅为几到十几微米可调,激振器提供水平方 要达到纳米甚至原子级。相应地,如何实现零 向的振动,振动频率50～500Hz,振幅为几百微 件的超光滑抛光已经成为精密加工的一个重 米到几毫米可调。文采用了C语言作为工具, [1-4] 要研究课题 。为了稳定并且高效率的获得 并结合物理学中波的叠加原理,对在磨料粒子 亚纳米无损伤超光滑表面,我们提出流体二维 二维振动耦合情况下的运动轨迹进行初步的仿 振动物理—化学复合超光滑表面加工技术,这 真分析,以反映粒子在抛光过程中的运动状态。 是一种全新的超光滑表面加工方法。该方法 由于水平方向和竖直方向的振动波都是 采用流体 “软”物质取代抛光垫,并施加 谐波,且都是纵波,故可设在水平方向的高频 二维高频振动作为抛光作用力,实现对各种平 振动的波函数为X,竖直方向的超声振动的波 面或缓变曲面工件表面实现原子(分子)规模的 函数为Y,其表达式分别如下: 图5磨料轨迹 精密去除和抛光。为了较好的施加二维高频 (1) 振动,我们采用压电陶瓷换能器提供垂直方向 (2) 的振动,采用激振器提供水平方向的振动,振 式中: 动频率为50～500Hz,振幅为几百微米到几毫 , 为振幅 米可调。激振器与振体相连,因此振体能否响 , 为频率 应激振器的振动是水平振动能否实现的关键。 , 为初相位 本文采用有限元法,利用ANSYS软件对振动 图3－图6是以振幅和频率作为变量模拟 体的固有振动特性进行了分析。并用c语言作 出磨料粒子在二维耦合振动作用下的运动轨 为工具对二维振动耦合的作用下磨料粒子的 迹。 运动轨迹进行了初步的仿真分析。 一般来说,在相互垂直的分振动频率不同 的条件下,合振动的轨迹不能形成稳定的图 案,但如分振动频率成整数比,则合振动的轨 迹为稳定的曲线即Lissajous图形。然而在本 图6磨料轨迹 研究中发现由于两个分振动的振幅和频率相 迹的不稳定且在限定的区域内随机运动而形 差较大,上述的这些轨迹曲线并不稳定,其最 成的结果。 终的结果都会变成如图6的形式。这是由于轨 3流固耦合分析 由于在抛光的时候振动体中流体振动场 的振动状态对于加工效果有着很大的影响,我