离子径迹模板法制备纳米线.pdfVIP

___________________________________________________________________________ 离子径迹模板法制备纳米线 1，2 1 姚会军 ，刘杰 1 中国科学院近代物理研究所，兰州，730000 2 中国科学院研究生院，北京，100039 摘要： 重离子辐照过的高分子有机膜，经过适当的处理，可以作为模板来制备金属和可溶性盐 的纳米线，此方法称为离子径迹模板法。本文介绍了电化学沉积方法和过饱和溶液法来制备 金属纳米线和可溶性盐纳米线的实例，同时还介绍了以有机模为模板制备纳米线的一些应 用。 关键字：模板法 离子径迹 纳米线 1、引言： 目前纳米材料已成为国内外研究的一个热点课题，对于被视为21世纪重点开发领域的 IT，能源，环境，生物等领域都将产生极其广泛和重要的影响［1］。做为纳米材料的成员之 一,纳米线因其优异的光学性能、电学性能及力学性能等特性而引起了凝聚态物理界化学界 及材料科学界科学家们的关注, 利用物理和化学方法组装纳米线近年来也成为纳米材料研 究的热点[2]。 其中，利用离子径迹模板法来制备纳米线已经成为近年来兴起的新的制备方法。高分子 有机薄膜在经过高能离子辐照以后，会在薄膜中形成直径从几纳米到几十纳米的柱状损伤区 域，这些损伤区域称作离子的潜径迹（latent track）。把带有潜径迹的薄膜放在蚀刻液中进行 蚀刻，根据蚀刻条件不同，会在薄膜内形成直径从十几纳米到几百纳米的孔阵列，把这种带 有孔阵列的薄膜称为核孔膜[3]。通过各种物理和化学方法，以核孔膜为模板(离子径迹模板)， 可以把金属，无机盐等填充到其内形成平行排列的纳米线阵列。对于加速器中辐照的膜，由 于重离子束流的高度平行、能量均匀可控，膜孔的均匀性和方向性良好。另外，根据膜的厚 度和重离子辐照剂量的不同，模板内孔的长度和密度也会有所不同[4]。离子径迹模板法制 备纳米线因其以上独特的优点而被逐渐被人们所采用。 2、核孔模的制备 (1) 重离子辐照 核孔膜所用高分子有机膜多为聚酯(PET)和聚碳酸酯(PC)膜，高能重离子在通过聚 合物时损失能量，并引起靶原子的激发和电离，在许多固体中，导致永久的辐照损伤。 由于重离子的高电荷态，伴随着高的能量转移，在离子路径周围产生特殊的、不可逆 的化学和结构变化的柱状径迹，其直径只有几个纳米，称为潜径迹。但并非有机模经 过任何离子辐照都可用以制备核孔膜，能否制备出理想的核孔模与重离子在有机模中 的能损有关系。 ___________________________________________________________________________中国科技论文在线 图 1 为TRIM 程序计算模拟出来的Xe, Kr, Ar 和O 离子在PC 膜中能损和能量的关系曲 线，根据蚀刻的实验结果，■，▲符号表示蚀刻出的孔径大小比较均匀；⊕符号表示蚀刻出 的孔径大小不均匀；○◇符号表示在蚀刻过程中没有孔出现。由图 1 可知，并非高分子有机 膜经过任何种类和能量的离子辐照后都可以发生蚀刻，而是有一个发生蚀刻的阈值，也就是 能否发生径迹蚀刻的一个最低能损值。低于这个阈值，沿着离子径迹就不能发生蚀刻[5]。 在进行重离子辐照时，对重离子的种类和能量就有所要求，要使离子能损不仅高于蚀刻 阈值，而且能损越大，将来蚀刻孔的孔径直径越均匀。所以，人们大都选用高能量原子序数 大的重离子来对有机膜进行辐照。 图2、Au 离子在PC 膜中能损随能量的变化 图2 是用TRIM 程序计算并模拟出来的Au 离子在PC 膜中能损随能量的变化关系曲线。 所用重离子多为能量在 11-14MeV/u 的Au 和Pb 离子，因为能量在此区域的重离子，其能损