磁控溅射技术设计合成ZrAlN%2fZrB-%2c2-和W%2fZrB-%2c2-纳米多层膜研究.pdf

中文摘要 摘要 分析手段研究了薄膜的结构特征；利用表面轮廓仪(Ⅻ．2)和纳米力学测试系 统研究薄膜的硬度、弹性模量以及薄膜与基底的附着力等机械性能。揭示多层膜 体系的结构和性能以及工艺参数之间的相互关系，找出合成最佳多层膜的工艺， 使多层膜体系的硬度、残余应力以及膜基结合力等都明显优于单质薄膜材料。 上制备ZrAlN／ZrB2纳米多层膜。讨论了调制周期、调制比例和N2／Ar比等实验 条件对薄膜结构和性能的影响。SEM和低角XRD证明了薄膜调制结构，同时显 示多层膜界面清晰。当调制周期为40 nnl，ZrAlN和ZrB2调制比例为1／3，工作 气压为0．3／0．4 GPa，同时多层 Pa，N2／Ar比为1／3时，薄膜硬度达到最大值36．4 膜残余应力，摩擦性能以及膜基结合力也都明显优于单质薄膜。多层膜各项机械 性能达到最佳的同时，高角XRD表明多层膜表现出了明锐的Z洲N(111)，A1N 的原因之一。 选取W和ZrB2作为个体层材料，利用射频磁控溅射技术在室温下制备