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28 2 电 子 显 微 学 报 Vol28, No2
2009 4 Journal of Chinese Electron Microscopy Society 200904
: 2009)
*
孙瑞涛, 韩 明 , 于忠辉, 庞年斌, 尹文红
( 山东理工大学机械工程学院, 山东 淄博255049)
: 文提出了一种新的表达电子衍射相对强度的经验公式利用衍射斑点的灰度侧视分布图, 详细研究了
Ni FeGa 合金中14M 调制结构马氏体的选区电子衍射图结果表明: 晶体结构因数的对数值与其相应的衍射斑点
灰度积分值差的函数呈线性关系
: 单晶电子衍射; 相对强度; 结构因数
: O7 22+ 7 ; TG 11523 : A
, , ,
10 nm 10 nm 10
[ 1]
nm
[ 2~ 4]
,
, ,
[ 5]
,
A
1
, ,
, 999% NiFeGa
Sirion200 Oxford
, ( EDS) : N i1834at % Fe
[ 6]
, , 2725at % Ga, Q100DSC
[ 7]
, Ms = 333 KX
[ 8]
D hkl , D8ADVANCE X
[ 6]
Ihkl , , 6 min
[ 7] 50% ~ 100% 05 mm ,
70~ 80 m , 3 mm
, , Gatan Model 691
,
2
Tecnai G F20
, CanoScan LiDE 25
, 1 200 dpi
, 256
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