TFT行业术语最全.pptVIP

Contents Contents Contents Contents Contents Contents Contents Contents 氮气……制程气体，常用为破真空Vent 或吹干的媒介 N2 磷化氢……制程气体 PH3 笑气……制程气体 氨……制程气体 矽甲烷……制程气体（洩漏有爆炸危险） (制程)气体…目前大多数种类的气体，多为提供CVD，Sputter 及干蚀刻电浆源之用 去光阻液，N-300 为厂商型号，成份为单乙醇铵与单丁醚的混合物 异丙醇 Isopropyl Alcohol 的简称，主要用来作为设备擦拭液，在去光阻制程中亦用来清除玻璃基板上的有机残留物（如光阻或去光阻液） 成份中含乙酸CH3COOH、磷酸H3PO4 及硝酸HNO3，主要用来蚀刻Mo/Al/Mo 的沉积层 成份中含氟化铵NH4F 及HF，主要用来蚀刻7PEP中的SiON 中 文 说 明 N2O NH3 SiH4 (Process) Gas N-300 IPA Al-Etchant BHF 英 文 专 有 名 词 生产作业系统及工艺专有名词 氯气……制程气体 Cl2 氯化氢……制程气体，刻蚀n+时的电浆源之一 氦气……制程气体，混合在其它制程气体中，共同形成电浆源，使电浆组成分布均勻 氟化硫……制程气体，常用的主要干蚀刻电浆源以为提供蚀刻主原料氟的来源 氯化硼……制程气体，在干蚀刻中用以作为蚀刻AlNd 的电浆源 常用来作电浆的基本组成 氩气……制程气体，用来轰击溅镀机上的金属靶或常用为加热设备的热传媒介 氪气……制程气体，用来轰击溅镀机上的金属靶 氟化氮……制程气体，常用为清除CVD 反应室壁沉积矽Si 媒介 氢气……制程气体 中 文 说 明 HCl He SF6 BCl3 O2 Ar Kr NF3 H2 英 文 专 有 名 词 生产作业系统及工艺专有名词 去光阻机 Stripper 步进式曝光机 Stepper 预烘 上光阻机 溅镀机 化学气相沉积 清洗机 厂商 ，供货商 四氟化碳……制程气体，常用的主要干蚀刻电浆源以为提供蚀刻主原料氟的来源 中 文 说 明 Pre-bake Coater Sputter CVD (Chemical Vapor Deposition) Cleaner Vender （Vendor） CF4 英 文 专 有 名 词 生产作业系统及工艺专有名词 曝光 Exposure 干法刻蚀（通常为气体刻蚀），Line内多称为干刻 Dry Etch 湿法刻蚀（通常为药液刻蚀），Line内多称为湿刻 蚀刻机 硬烤 显影机 边缘曝光，指在显影前将玻璃基板边缘光阻较厚的部分再曝光，以防曝光量不足，造成光阻在显影后残留 简称ER，指在旋转涂布光阻后，用NBA 洗淨残留在玻璃边缘的光阻 刻号机，Line内显影机具有此功能，将玻璃基板的Chip ID、Glass ID 及Veri-Code 曝出，以备人员及机台辨认之用 背面曝光 中 文 说 明 Wet Etch Etcher Hard bake Developer Edge Exposure Edge Remover Titler Backside-Exposure 英 文 专 有 名 词 生产作业系统及工艺专有名词 电浆 Plasma 断/短路测试机 ATOS (Open/Short Tester) TFT的电性测试设备 AMSR (Sheet Resistance) 退火 测试机 为去光阻机的模组之一，用来去除制程的有机残留 电感偶式电浆蚀刻机 电浆蚀刻机 反应性离子蚀刻 中 文 说 明 ATTG (TEG Tester or TFT Device Measurement) AMSR (Sheet Resistance) Anneal Tester O3 Asher ICP (Inductive Coupled Plasma) PE (Plasma Etch) RIE (Reactive ion etching) 英 文 专 有 名 词 生产作业系统及工艺专有名词 膜厚量测仪(前者简称Sopra，后者简称Nano) AMEL; AMOT (Film Thickness) 目视检查机，Array段制程的最后出货前检查 高倍显微鏡，主要在检视曝光后、蚀刻后及去光阻后表面的线路图案检查(简称Olympus) 量测设备用以测量关键线宽CD，及借量测Box重叠狀況来检视Stepper的精度 表面轮廓检查机，测量线路图案的高低分布狀況，亦可借此求得