钯合金膜扩散法制取高纯氢气可行性研究及市场分析.pdf

2002年天津Tr、网络、信息技术、电子仪表创新学术会议 金膜扩散法制取高纯氢气 囊行性研究及市场分析 张学华 天津市净化设备厂1—瞄：300010电话 摘要 篓净化技术为主线，钯合金膜纯化蜀● 体净茹黼 化设妒场需求量t 躲尝耍麓黧粼 醛圭盏茹警湖笔塞 F所介绍的内容重点仍—t原有立场上。重点 谜蔗黑册盆萋 向题。本文涉j 冒●—————●●●i迦在与国际接轨，大_发展 主义市场经雹 —I【第二、阐述了蝈 要求及纯I■F法。 、介绍工一 原理及结构。第四、介j 五、阐述了目 b法纯化氢气设备中 发展 I术在全球迅i 弘’国 随 1人唧(幽 程的加 发展带来 『将预示着我国 场经济 触 缫墓黼}出“党始 免进生产力的j 终代表 着先进 群众的根 这一切充分说j 主义建 设。建! }社会主义市甥■济体系， g，深化改革的 我 ■子工业、民族士—-i莹童醚 面临着国外盈 几年来 的■I，但核 定的差距。我 企业基本占据1■内市塞显篓柔激窝桀 额，主要部件还是靠进口。1翮罪F量然与我国 r开展中国家，而印度的软硬件鼍 第七位，号称第七软件大国。我国的软件开发 )远远落后于印度。2000年的台湾 市场带来了很大的波动，所以说在改革开放的 L年来，我国的电子工业、半导体生 纛 经营。因此我们要正视现实，适应环境，把握未 调整自己，把我国的电子工业搞上 动密集形产业将会向技术密集形发展，因为技 目集形产业具有投资小、见效快、勇 熬霈盏蕖 低的特点。 综上所述。笔者认为。我国的电子工业、半 ：产行业将会被重视和 }。而在半导体生产加工过 程中的工艺保证措施——工业气体净化设备{ 阔的发展前景。下面i 技术做以阐述。 二、电子工业对气傅t度的置—及纯化方法 l 电子工业对气体纯度的要求 业内人士都知道工业气体的纯度不能满足电子工业的要求。就氢气来讲，工业上将水电解制取氢气和 120 2002年天津rr、网络、信息技术、电子仪寰创新学术会议 埃粒子等组份，在电子工业生产过程中，这些组份均属有害物质，必须清除，电子工业对氢气纯度的要求一般 行专门的纯化处理后方能使用。氢气在电子工业中常用作保护气、携带气、稀释气、还原气等，氢气中的含氧 量超标，会使氧气与半导体材料硅作用，生成二氧化硅，影响结晶的生长。随着超大规模集成电路的发展及 在计算机芯片制造过程中，要求在面积仅有几平方毫米的芯片上制作出几十万甚至上百万个元器件。几十万 个门电路，其芯片上相邻元件的间距和金属化线条的宽度都达到了甄微米级。因此在芯片的加工制造中，无 论是环境、水质、试剂和各种气体纯度都有很高的要求，现在电子工业中对氢气纯度