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2015-09-20 发布于重庆
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光刻对准技术研究进展.pdf

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电子工业专用设备 ·专题报导· !#$%’() *+, !-’.),+($. /,+0#.)1 23(#*3.)#,$(4 光刻对准技术研究进展- , , ’ 梁友生曹益平邢廷文 ! # $!%%$ ’ ( !%(%) （四川大学光电科学技术系四川成都中国科学院光电技术研究所，四川成都）摘要：回顾了光刻对准技术的发展功能，对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价，介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式，并对光刻对准技术前景进行了描述与展望。关键词：光刻技术；对准技术；激光分步对准；掩模 ./0(1+2 3 ,((4541(2 ’((4 ,(5((0(5(1 中图分类号文献标识码：文章编号： 1 % 5’6$’7 +* 8-$4(’() 9’.:(+-+4; *+, $):+4,3%:; , , ’ 673/8 9:;5=?@ A3$ 9B5CB?@ D7/8 .B?@5E? F,+ $CG:5HIGJ:?BI %CKJG*?G #BI=;K? L?BMJBGN A=?@O; ),(()4 A=B?KP ’+ #GKG QN 6KR:JKG:JN :S $CGBIKH .I=?:H:@B S:J !BIJ:SKRJBIKGB:? S7?GBG;G :S $CGBI K?O HIGJ:?BI A=B? 3IKO*N :S #IB?IA=?@O; ),(’(T A=B?KU 8=1),3.) .= OMH:C*?G :S KHB@?*?G GI=?BV; =K R? JMBEO+ #:* WB?O :S KHB@?*?G CJB?IB5 CH KJ ;**KJBXO K?O :* GNCBIKH KHB@?*?G NG* S:J HBG=:@JKC=N =KM R? B?GJ:O;IO K?O K?K5 HNXO B? OGKBH +7G B I:* G: G= I:?IH;B:? G=KG *K?N =B@= KII;JKIN *KW 5G: 5EKSJ KHB@?*?G NG* EBHH =KM R? KI=BMO ::?+ ?’;7+,01 6BG=:@JKC=NP 3HB@?*?GP 6KJ GC KHB@?*?G !KW !!# !$% ij Z8 ’[ 5 SC ’()* ! +,-./0 1 +2 34 56789:; =?@A 5BCDE F Q dO=JghCQ F -es O-e ;GHI =JKLMN OPCQ)* R-( -.]- 8 5 !$!# si=] ’)* 1 %STU V TWX -/ YZ 8 ’ [YZ8- ’\/0]^I 5Z_-\/0 5‘a 8 5 S RZ8 ’[ Z_b Sc d-eCQHfgh 5ij F kf/0 5 F 5lmnopqrA satb-eCQu vw -eCQ|}~ 5;G