二次供水系统中UV消毒装置的开发(论文资料).pdfVIP

　 　　中国给水排水 200 1 Vol . 17 　　　　　　　　　　CH INA WA TER WA STEWA TER 　　　　　　　　　　No . 9 二次供水系统中U V 消毒装置的开发 1 2 王启山 , 　任福燕 ( 1. 南开大学 环境科学与工程学院 , 天津 30007 1 ; 2 . 天津市市政工程设计研究院 , 天 津 30005 1) ( ) ( ) 　　摘 　要 : 　介绍了对二次供水系统水箱 水池 中污染水质采用紫外线 U V 杀菌消毒的机理 。 在静态试验和动态试验的基础上 ,设计出适合高层建筑二次供水系统的实用型 U V 杀菌消毒装置 , 其运行效果良好 ,并实现了水力自动控制 。 　　关键词 : 　供水 ; 　二次污染 ; 　U V 杀菌消毒 ; 　自动控制 ( ) 中图分类号 : TU 99 1. 25 　　文献标识码 : C 　　文章编号 : 1000 - 4602 2001 09 - 0075 - 02 　　二次供水系统虽然有效地解决了高层建筑供水 11 　静态装置 在水量和水压上的需求 ,但出水水质下降 ,普遍存在 静态试验的目的是测试水在静止状态下灭菌率 的问题是细菌学指标超标 ,余氯量也基本为零[ 1 ] 。 与紫外线辐射半径 、辐照时间的关系 。装置 由不锈 改善二次供水系统的水质问题 ,除加强管理 、改 钢镜面板制成 ,镜面板的作用是把穿透水体的紫外 进水箱材质和构造外 ,其根本的措施是进行二次消 线重新反射回水体 。紫外线灯管浸没在水中 , 以灯 毒处理 。目前对水进行消毒处理的方法主要有物理 管为中心 ,调整灯管周围可调挡板 ,达到调整辐射半 法和化学法 ,而化学法中常用的消毒剂均为有毒气 径和水体容积的目的。在各种辐射半径和辐照时间 体 ,考虑到在居民楼内二次供水系统的安全性以及 下 ,测定辐照前后水中细菌学指标的变化 ,并算出灭 避免形成消毒副产物 ,各种化学消毒法均不宜采用 。 菌率 ,从而确定灭菌规律 。 物理法中加热法 、超声波法 、紫外线照射法 、磁场 、高 12 　动态装置 压静电场 、高频场均可杀菌消毒 ,考虑到安全性和技 动态装置是根据静态试验获得的参数 ,用不锈 术条件的成熟程度 ,试验选中了紫外线照射工艺 。 钢镜面板制作 。按居住楼设计秒流量计算法计算出 ( 近年来 , 国外对紫外线消毒效果予以充分重视 ,特别 调节水箱最大供水流量 , 以此流量和停留时间 辐照 ) 是发现自来水中存在隐孢子虫属后 ,把紫外线消毒 时间 确定动态装置的净容积 。为保证杀菌效果 ,将 工艺作为自来水消毒的最后一道把关的工序 ,并即 装置分为三格 ,每格内设一支紫外线灯管 ,让水顺序 将正式列入美国供水法规[2 ] 。 流过三格